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ImageMaster Universal光學傳遞函數測量儀

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更新時間：2024-02-07 08:53:07瀏覽次數：204次

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深圳維爾克斯光電有限公司

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產品簡介

作為高分辨率光學傳遞函數測量儀，可以測量幾乎所有類型光學系統的光學參數，無論從高性能的相機鏡頭還是到瞄準裝置都可以使用本系列產品進行精確的測量。

詳細介紹

ImageMaster Universal光學傳遞函數測量儀，高精度，全波段，全自動測量

ImageMaster Universal光學傳遞函數測量儀由全歐光學(TRIOPTICS)設計打造，是其公司下性能的產品，可以測量幾乎所有的光學系統的參數，同時具有高精度，高分辨率，全波段以及全自動的測量效果，可測量的對象包括有高性能相機鏡頭，瞄準裝置等等

ImageMaster Universal光學傳遞函數測量儀的技術規格

技術規格	描述
系統配置	無限-有限共軛系統、有限-有限共軛系統、無焦系統
離軸角度	±120°（可擴展至±180°）
光譜范圍	UV：250 nm-450 nm VIS：450 nm-700 nm NIR：700 nm-1000 nm SWIR：1000 nm-2500 nm MWIR：3 um-5 um LWIR：7 um- 13 um
樣品焦距范圍	5 mm-2000 mm（可擴展）
通光口徑	450 mm（可擴展）
測量方位角	360°
圖像高度	±50 mm
空間頻率	UV: 100 lp/mm VIS / NIR: 500 lp/mm SWIR: 120 lp/mm MWIR: 80 lp/mm LWIR: 60 lp/mm
MTF測量精度	±0.02 MTF 軸上 ±0.03 MTF 軸外
MTF測量重復性	±0.01 MTF
EFL測量精度	±0.2 %
畸變測量精度	±0.7 % 無編碼器 ±0.25 % 帶編碼器
畸變測量重復性	±0.3 % 無編碼器 ±0.1 % 帶編碼器
橫向色差測量精度	±0.5 um
橫向色差測量重復性	±0.3 um
縱向色差測量精度	±1 um
縱向色差測量重復性	±0.2 um
CRA測量精度	±1°
CRA測量重復性	±0.4°
FFL（相對值）測量精度	±2 um
FFL（相對值）測量重復性	±1 um
散光測量精度	±4 um
散光測量重復性	±1 um
場曲率測量精度	±2 um
場曲率測量重復性	±1 um

研發型高精度光學傳遞函數測量儀的空間頻率可以能隨著被測樣品和光管的焦距比而變化

德國全歐光學(TRIOPTICS)設計、生產的ImageMaster Universal光學傳遞函數測量儀是ImageMaster光學傳遞函數測量儀系列中的產品，可以測量幾乎所有類型光學系統的光學參數。

高精度光學傳函儀ImageMaster使用高精度、長壽命的零部件，采用創新設計的臥式結構，更加使用于中型和更大的鏡頭檢測。例如相機鏡頭的制造和用于空間探索的航空鏡頭或透鏡的開發。臥式結構的高精度光學傳遞函數測量儀ImageMaster Universal提供ImageMaster光學傳遞函數測量儀系列中的精度和極大的穩定性。

研發型高精度光學傳遞函數測量儀提供了較好的圖像質量和較高信噪比的高分辨率光學傳遞函數測量儀。全歐光學作為的光學檢測設備制造廠商，始終保證光學傳函儀的測量結果符合國際標準的可追溯性。