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深圳維爾克斯光電有限公司
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LV150NA和LV150N作為Nikon正置工業顯微鏡具備模塊化結構，可滿足不同工業領域的應用需求，顯微鏡采用純反射照明技術，支持的檢測方式有：明場、暗場、微分干涉、熒光、偏光和雙光束干涉，可以搭載數碼相機，對常用的半導體、集成電路及其它各種材料進行檢測。
Nikon反射式正置工業顯微鏡LV150N/LV150NA/LV150NL
日本尼康Nikon起始于1917年，是一家百年企業，主營望遠鏡、顯微鏡、測量儀，相機，其產品在世界聞名，質量工藝可靠，本文主要介紹ECLIPSE LV系列工業顯微鏡的LV150N和LV150NA型號，這兩種反射式尼康工業顯微鏡，都具備模塊化結構，可滿足不同工業領域的工業顯微鏡應用需求。
該系列型號為手動式工業顯微鏡，支持檢測的方式包含明場、暗場、微分干涉、熒光、偏光和雙光束干涉，采用純反射照明還可以搭載其他數碼相機來對常用的半導體、集成電路及其它各種材料進行檢測。搭載的軟件和智能物鏡轉換器可以識別當前使用的物鏡，物鏡發生變化時，軟件的倍率也會自動校正
ECLIPSE LV系列工業顯微鏡圖片
正置Nikon工業顯微鏡規格書：
| 型號 | 正置Nikon工業顯微鏡 | 正置Nikon工業顯微鏡 |
| LV150N | LV150NA | |
| 底座 | 樣品高度：38 mm（當LV-NU5 U5 物鏡轉換器和 LV-S32 3×2 載物臺／LV-S64 6×4 載物臺結合使用時） | |
| 可達73 mm（使用column riser時） | ||
| 12 V 50 W內置調光器光源 | ||
| 同軸粗微調機構： | ||
| 左側：粗調和微調/右側，40 mm行程 | ||
| 粗調：粗調和微調／右側：微調，40 mm 行程 | ||
| 粗調：14 mm／轉（扭矩調節、上方限位） | ||
| 微調：0.1 mm／轉（1 um／格） | ||
| 載物臺裝配安裝孔間隔：70 × 94（通過4顆M4螺釘固定） | ||
| 物鏡轉換器 | C-N6 ESD 六孔物鏡轉換器 ESD | LV-NU5A 電動通用五孔物鏡轉換器 ESD |
| LV-NU5 通用五孔物鏡轉換器 ESD | ||
| LV-NBD5 BD 五孔物鏡轉換器 ESD | LV-NU5AC 電動通用五孔物鏡轉換器 ESD | |
| LV-NU5I 智能通用五孔物鏡轉換器 ESD | ||
| 反射照明器 | LV-UEPI-N | |
| LV-LH50PC 12 V 50 W 初對中光源，LV-LL LED 光源 | ||
| 帶有明/暗場切換功能，視場光闌和光圈擋板相關聯（可添加） | ||
| 可插入?25 mm 濾光片（NCB11、ND16、ND4） | ||
| 可插入起偏器、檢偏器，λ版面 | ||
| 帶有雜光消除結構，配備噪音消除器 | ||
| LV-UEPI2 | ||
| LV-LH50PC 12 V 50 W 初對中光源，LV-LL LED 光源 | ||
| HG 初對中光纖照明器：C-HGFIE（帶燈光調節）*選配件 | ||
| 熒光LED 光源D-LEDI（可PC控制調節光線 *僅適于LV150N） | ||
| 明/暗場切換與視場光闌及孔徑光闌聯動，孔徑光闌與視場光闌均可對中 | ||
| 明場、暗場和反射熒光的觀察切換及其光路自適應調節 | ||
| 可插入?25 mm濾光片（NCB11、ND16、ND4） | ||
| 可插入起偏器、檢偏器和λ板 | ||
| 帶有雜光消除結構 | ||
| 目鏡筒 | LV-TI3 三目鏡筒 ESD（正像，FOV：22/25） | |
| LV-TT2 TT2 傾角可調式三目鏡筒（正像，FOV：22/25） | ||
| C-TB 雙目鏡筒（倒像，FOV：22） | ||
| P-TB 雙目鏡筒（倒像，FOV：22） | ||
| P-TT2 三目鏡筒（倒像，FOV：22） | ||
| 載物臺 | LV-S32 3×2 載物臺（行程：75 × 50 mm（帶玻璃板））ESD兼容 | |
| LV-S64 6×4 載物臺（行程：150 × 100 mm（帶玻璃板））ESD兼容 | ||
| LV-S6 6×6 載物臺（行程：150 × 150 mm）ESD 兼容 | ||
| 目鏡 | CFI目鏡系列 | |
| 物鏡 | 工業顯微鏡用 CFI60-2/CFI60 光學系統系列物鏡（需根據觀察方法合理選用）。 | |
| ESD性能 | 1,000 至 10 V，0.2 秒內（不包括特定附件） | |
| 能耗 | 1.2 A/75 W | 0.1 A/3 W |
| 重量 | 約8.6 kg | 約8.7 kg |
Nikon工業正置顯微鏡可兼容的觀察方法：
| 型號 | | 明場 | 暗場 | 微分干涉 | 熒光 | 偏光 | 雙光束干涉 |
| LV150N工業顯微鏡 LV150NA工業顯微鏡 | 反射 | √ | √ | √ | √ | √ | √ |
| 反射（LED） | √ | √ | √ | — | 簡易偏光觀察 | — | |
| LV150NL 工業顯微鏡 | 反射 | √ | — | √ | — | √ | √ |
*更具觀察方式選擇合適的物鏡（LV150NL工業顯微鏡上海內有，但上沒有顯示其規格參數，其能兼容的觀察方法少，適用范圍相對比較窄，本文不另外說明。）
在明場的環境下對半導體（IC晶片）進行觀察時，ECLIPSE LV系列尼康LV150N/LV150NA工業顯微鏡物鏡到照明系統擁有很好的雜光消除結構，能提供具備高對比度的明亮圖像；而在暗場環境下，物鏡照明系統中帶有尼康的理念設計，支持明亮的暗場觀察，并能靈敏檢測出樣品上的微小結構和缺陷。
明場、暗場效果對比圖
DIC棱鏡插片有標準型和高對比度型兩種，可根據液晶樣品觀察需要進行選擇。此外，微分干涉（DIC）還可觀察到模具表面極細的加工紋理（明場所看不到的細微高度差表現）
對有機EL、有焊裝的印刷電路板等樣品，熒光觀察可以發揮其的效果。
明場、熒光反射效果對比圖
對帶有雙折射特性的樣品，如方解石、液晶、含有內應力的塑料有機玻璃等，ECLIPSE LV系列尼康工業顯微鏡能十分有效的進行觀察。
明場、偏光效果對比圖
ECLIPSE LV系列尼康工業顯微鏡可用于Michelson（TI）和Mirau（DI）的雙光束干涉測量。與測量目鏡結合使用，該Nikon正置工業顯微鏡還能在不接觸樣品的情況下檢測和測量微小的水平差異。
ECLIPSE LV系列顯微鏡可從3種不同類型的載物臺進行選擇：
LV-S32 3x2載物臺：行程75 x 50 mm，帶玻璃板，可配備LV-S32SPL ESD板
LV-S6 6x6載物臺：行程150 x 150 mm，可配備LV-S6WH晶片夾/LV-S6PL ESD板
LV-SPR P旋轉載物臺
集成用于顯微鏡的Digital Sight相機（DS-Ri2或DS-Fi3）有專門的圖像處理與控制軟件軟件NIS-Elements與尼康LV150N/LV150NA工業顯微鏡配套（顯微鏡相機 + NIS-Element軟件）。
| 數碼相機 | DS-Fi3 | Digital Sight 1000 | Digital Sight 10 |
| 特點 | 集以往型號的主要特點（高分辨、高感度/低噪聲、高 速實時動態顯示）于一身，并進一步提升了這些性能 | 配備了200萬像素CMOS圖像傳感器，可拍攝全高清顯微鏡圖像。通過將顯微鏡連接到該攝像頭和HDMI顯示器，可以捕獲電影和圖像并將其保存到攝像頭中預先插入的SD卡上 | 這款高分辨率相機可同時捕獲彩色和單色圖像，可達6000x3984像素。可將許多被捕獲圖像拼接在一起，合成一個單一的、大的組合圖像。 |
| 幀頻 | 30 fps（1440 x 1024） | 30 fps（1920 x 1080） | 60 fps（1920 x 1080） |
| 可記錄像素 | 2880 x 2048 | 1920 x 1080 | 6000 x 3984 |
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