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等離子體刻蝕終點檢測儀

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更新時間:2024-02-02 14:09:18瀏覽次數(shù):161次

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產(chǎn)品簡介

The IMP-EPD is a differentially pumped, ruggedised secondary ion mass spectrometer for the analysis of secondary ions and neutrals from the ion beam etch process.

詳細(xì)介紹

IMP離子蝕刻探針(Ion Milling Probe),自帶差式泵,堅固的二次離子質(zhì)譜儀,適于分析離子蝕刻過程中的二次離子和中性粒子。的專業(yè)終點檢測(End Point Detection)儀器,用于離子蝕刻控制以及過程優(yōu)化監(jiān)測。

 

·差式泵歧管,經(jīng)連接法蘭,接到過程室
·離子光學(xué)器件,帶能量分析器和內(nèi)置離子源
·Penning規(guī)和互鎖裝置,以提供過壓保護(hù)
·數(shù)據(jù)系統(tǒng)與過程控制工具整合

 

·高靈敏度的 SIMS / MS,帶脈沖離子計數(shù)檢測器
·三級過濾四極桿,標(biāo)準(zhǔn)配置質(zhì)量數(shù)為300amu
·穩(wěn)定性(24h以上,峰高變化小于 ±0.5%)
·通過 RS232RS485或以太網(wǎng), 軟件MASsoft控制
·程控DDE, 平行數(shù)字式I/ORS232通訊

IMP Series End Point Detectors (903 KB)

Mass Spectrometers for Thin Films, Plasma and Surface Engineering (1.1 MB)

IBM Almaden Research Center | Advanced Instrumentation

Nanodevice Fabrication : Ion Beam Nano-Fabrication


關(guān)鍵詞:二次離子質(zhì)譜儀
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