污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
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聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線A system for multiple source monitoring in MBE deposition applications. For molecular beam analysis and deposition control.
XBS 分子束外延沉積速率監(jiān)測(cè)/控制系統(tǒng)(MBE Deposition Rate Monitoring/Control System),適于精確的MBE分析,其他氣體分析和科學(xué)實(shí)驗(yàn)使用。
XBS 分子束外延沉積速率監(jiān)測(cè)/控制系統(tǒng)的高靈敏度和數(shù)據(jù)的快速采集,能夠提供生長(zhǎng)速度低至0.01 ?/s的質(zhì)譜信號(hào)。
·交叉離子源,束接收角同軸的橫斷面呈±35°
·離子源控制,用于軟離子化和表觀電勢(shì)質(zhì)譜
·2mm束接受孔,以利特殊使用者操作
·一級(jí)過(guò)濾處增加射頻,抗污染物能力增強(qiáng)
·內(nèi)置UHV兼容的水冷卻罩
·通過(guò)RS232、USB或Ethernet連接計(jì)算機(jī),MASsoft軟件控制
·質(zhì)量數(shù)范圍: 1~300 amu(標(biāo)準(zhǔn)配置)
500amu(選配)
·掃描速度: 100amu/s
·最小掃描步階: 0.01amu
·檢測(cè)濃度: 5ppb~99%
·穩(wěn)定性: 24h以上,峰高變化小于±0.5%
·監(jiān)測(cè)極限: 30 ions/s
·監(jiān)測(cè)生長(zhǎng)速率: 1? / min,或更低
XBS Monitor for the Molecular Beam Epitaxy Process (390 KB)
Mass Spectrometers for Thin Films, Plasma and Surface Engineering (1.1 MB)
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