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鋼研納克檢測技術股份有限公司


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全譜ICP光譜儀-Plasma 2000

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產品型號Plasma 2000 全譜ICP

品       牌

廠商性質生產商

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更新時間:2022-08-29 10:59:46瀏覽次數:613次

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經營模式:生產廠家

商鋪產品:143條

所在地區:北京北京市

聯系人:鋼研納克

產品簡介

全譜ICP光譜儀-Plasma 2000

詳細介紹

   鋼研納克ICP光譜儀源于鋼鐵研究總院,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發經驗,數十項ICP檢測標準的起草單位,ICP光譜儀產品標準GB/T 36244-2018起草單位,重大科學儀器專項《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位,最懂ICP應用的國產ICP光譜儀制造商。央企品牌,上市公司,品質之選!歡迎. :文經理 電話: 手機


儀器特點:

穩健高效的全固態光源

    全固態射頻發生器,體積小、效率高,全自動負載匹配,速度快、精度高,能適應各種復雜基體樣品及揮發性有機溶劑的測試,具有優異的長期穩定性。

    垂直炬管的設計,具有更好的樣品耐受性,減少了清潔需求,降低了備用炬管的消耗。

    簡潔的炬管安裝定位設計,快速定位,精確的位置重現。 

    實時監控儀器運行參數,高性能CAN工業現場總線,保障通訊高效可靠。

 

精密的光學系統

中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構,使用超純SiO2棱鏡,高光路傳輸效率,保證了深紫外區的元素測量。

    優化的光學設計,采用非球面光學元件,改善成像質量,提高光譜采集效率。

光室多點充氣技術,縮短光室充氣時間,提高紫外光譜靈敏度及穩定性,開機即可測量。

光室氣路獨立,可充氮氣或氬氣。

      包圍式立體控溫系統,保障光學系統長期穩定無漂移。

 

進樣系統

儀器配備系列經過優化的進樣系統,可用于有機溶劑、高鹽/復雜基體樣品、含氫氟酸等樣品的測試。

使用一體式炬管,易于維護,轉換快速,使用成本低。

使用質量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量,流量連續可調,保障測試性能長期穩定。

4通道12滾輪蠕動泵,泵速連續可調,確保樣品導入穩定性。

   

檢測器

大面積背照式CCD檢測器全譜段響應,高紫外量子化效率,抗飽和溢出

具有極寬的動態范圍和極快的信號處理速度

一次曝光,完成全譜光譜信號的采集讀取,獲得更為快速、準確的分析結果

同類產品中靶面尺寸,百萬級像素,單像素面積24μm X 24μm

三級半導體制冷,制冷溫度低于-35,具有更低的噪聲和更好的穩定性


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