化學、生物領域：原子吸收、ICP、ICP-MS，核磁共振、旋轉蒸發(fā)儀、CCD、生物發(fā)酵罐、化學反應器（合成器）等。
材料領域：電鏡、X射線衍射、X熒光、磁控濺射、真空鍍膜機、分子束外延、ICP刻蝕、各種半導體設備、疲勞試驗機、化學沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等等。
物理領域：激光器（各種型號）、磁場、各種分子泵以及包括材料領域使用的各種需水冷設備。
醫(yī)療：低磁場核磁共振、超導磁共振、直線加速器、CT、X光機等等。
技術優(yōu)勢
- *的Hot Gas Bypass技術，非啟停式制冷技術
- 控溫精度高（PID 控溫技術）
- 性能穩(wěn)定，質量可靠
- 節(jié)約大量的水資源
- 使用去離子水或蒸餾水，沒有水垢，不會堵塞儀器管路
設計特色
- 體積小，外形美觀
- 同等制冷功率下噪音比進口原裝水循環(huán)噪音低
- 多種規(guī)格型號，滿足不同用戶的需求
LabTech SH150-系列中型循環(huán)水冷卻恒溫器均采用*的PID數(shù)字控溫技術、的Hot Gas Bypass技術，產品質量可靠，可滿足絕大多數(shù)用戶的需求。 本系列產品廣泛應用于AAS、ICP、ICP-MS、電鏡等分析儀器行業(yè)，旋轉蒸發(fā)儀、索氏提取、固液萃取儀、凱氏定氮儀等實驗室設備，激光打標機、激光切割機等激光儀器及機床行業(yè)。 |
| | | SH150-900
該產品主要應用于 AAS 等分析儀器領域
| SH150-1000A
該產品廣泛應用于激光儀器領域
| SH/2100/3000
該系列產品廣泛應用于 AAS ， ICP ， ICP-MS ，掃描、透射電鏡等分析儀器；小型激光切割機等激光儀器；機床行業(yè) | SH-LT
該系列產品廣泛應用于低溫循環(huán)水冷卻器系列，其控溫范圍-20 ℃～ 35 ℃，廣泛應用于生命科學儀器領域。 |
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SMART儀器性能參數(shù) 儀器規(guī)格 | 控溫范圍 | 溫度穩(wěn)定度 | 制冷能力 | 泵流量 | 控溫方式 | SH150-900 | 8 ℃～ 35 ℃ | ± 0.3 ℃ | 900W | 4L/Min@1.5Bar |
| SH150-1000A | 8 ℃～ 35 ℃ | ± 0.1 ℃ | 1000W | 6.4L/Min@4Bar | PID（LCD數(shù)顯） | SH150-1000 | 8 ℃～ 35 ℃ | ± 0.1 ℃ | 1000W | 6.4L/Min@4Bar | PID | SH150-1500 | 8 ℃～ 35 ℃ | ± 0.1 ℃ | 1500W | 6.4L/Min@4Bar | PID | SH150-1500M | 8 ℃～ 35 ℃ | ± 0.1 ℃ | 1500W | 12.1L/Min@4Bar | PID | SH150-2100 | 8 ℃～ 35 ℃ | ± 0.1 ℃ | 2100W | 12.1L/Min@4Bar | PID | SH150-3000 | 8 ℃～ 35 ℃ | ± 0.1 ℃ | 3000W | 12.1L/Min@4Bar | PID | SH150-1000LT | -20 ℃～ 35 ℃ | ± 0.1 ℃ | 1000W | 6.4L/Min@4Bar | PID | SH150-2100LT | -20 ℃～ 35 ℃ | ± 0.1 ℃ | 2100W | 12.1L/Min@4Bar | PID | H500 | 8 ℃～ 35 ℃ | ± 0.2 ℃ | 5000W | 17.1L/Min@4Bar | PID | H700 | 8 ℃～ 35 ℃ | ± 0.2 ℃ | 7000W | 17.1L/Min@4Bar | PID | H900 | 8 ℃～ 35 ℃ | ± 0.2 ℃ | 9000W | 17.1L/Min@4Bar | PID |
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