產(chǎn)品描述：本系列產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于AAS、ICP、ICP-MS、電鏡等分析儀器行業(yè)，旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、索氏提取、固液萃取儀、凱氏定氮儀等實(shí)驗(yàn)室設(shè)備，激光打標(biāo)機(jī)、激光切割機(jī)等激光儀器及機(jī)床行業(yè)。

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品概述

化學(xué)、生物領(lǐng)域：原子吸收、ICP、ICP-MS，核磁共振、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、CCD、生物發(fā)酵罐、化學(xué)反應(yīng)器（合成器）等。
材料領(lǐng)域：電鏡、X射線衍射、X熒光、磁控濺射、真空鍍膜機(jī)、分子束外延、ICP刻蝕、各種半導(dǎo)體設(shè)備、疲勞試驗(yàn)機(jī)、化學(xué)沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等等。
物理領(lǐng)域：激光器（各種型號(hào)）、磁場(chǎng)、各種分子泵以及包括材料領(lǐng)域使用的各種需水冷設(shè)備。
醫(yī)療：低磁場(chǎng)核磁共振、超導(dǎo)磁共振、直線加速器、CT、X光機(jī)等等。

技術(shù)優(yōu)勢(shì)

*的Hot Gas Bypass技術(shù)，非啟停式制冷技術(shù)
控溫精度高（PID 控溫技術(shù)）
性能穩(wěn)定，質(zhì)量可靠
節(jié)約大量的水資源
使用去離子水或蒸餾水，沒有水垢，不會(huì)堵塞儀器管路

設(shè)計(jì)特色

體積小，外形美觀
同等制冷功率下噪音比進(jìn)口原裝水循環(huán)噪音低
多種規(guī)格型號(hào)，滿足不同用戶的需求

LabTech SH150-系列中型循環(huán)水冷卻恒溫器均采用*的PID數(shù)字控溫技術(shù)、的Hot Gas Bypass技術(shù)，產(chǎn)品質(zhì)量可靠，可滿足絕大多數(shù)用戶的需求。

本系列產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于AAS、ICP、ICP-MS、電鏡等分析儀器行業(yè)，旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、索氏提取、固液萃取儀、凱氏定氮儀等實(shí)驗(yàn)室設(shè)備，激光打標(biāo)機(jī)、激光切割機(jī)等激光儀器及機(jī)床行業(yè)。

SH150-900
該產(chǎn)品主要應(yīng)用于 AAS 等分析儀器領(lǐng)域

SH150-1000A
該產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于激光儀器領(lǐng)域

SH/2100/3000
該系列產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于 AAS ， ICP ， ICP-MS ，掃描、透射電鏡等分析儀器；小型激光切割機(jī)等激光儀器；機(jī)床行業(yè)

SH-LT
該系列產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于低溫循環(huán)水冷卻器系列，其控溫范圍-20 ℃～ 35 ℃，廣泛應(yīng)用于生命科學(xué)儀器領(lǐng)域。

SMART儀器性能參數(shù)

儀器規(guī)格	控溫范圍	溫度穩(wěn)定度	制冷能力	泵流量	控溫方式
SH150-900	8 ℃～ 35 ℃	± 0.3 ℃	900W	4L/Min@1.5Bar
SH150-1000A	8 ℃～ 35 ℃	± 0.1 ℃	1000W	6.4L/Min@4Bar	PID（LCD數(shù)顯）
SH150-1000	8 ℃～ 35 ℃	± 0.1 ℃	1000W	6.4L/Min@4Bar	PID
SH150-1500	8 ℃～ 35 ℃	± 0.1 ℃	1500W	6.4L/Min@4Bar	PID
SH150-1500M	8 ℃～ 35 ℃	± 0.1 ℃	1500W	12.1L/Min@4Bar	PID
SH150-2100	8 ℃～ 35 ℃	± 0.1 ℃	2100W	12.1L/Min@4Bar	PID
SH150-3000	8 ℃～ 35 ℃	± 0.1 ℃	3000W	12.1L/Min@4Bar	PID
SH150-1000LT	-20 ℃～ 35 ℃	± 0.1 ℃	1000W	6.4L/Min@4Bar	PID
SH150-2100LT	-20 ℃～ 35 ℃	± 0.1 ℃	2100W	12.1L/Min@4Bar	PID
H500	8 ℃～ 35 ℃	± 0.2 ℃	5000W	17.1L/Min@4Bar	PID
H700	8 ℃～ 35 ℃	± 0.2 ℃	7000W	17.1L/Min@4Bar	PID
H900	8 ℃～ 35 ℃	± 0.2 ℃	9000W	17.1L/Min@4Bar	PID