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日立集團
IM4000PLUS是支持斷面研磨和平面研磨(Flat Milling*1)的混合式離子研磨儀器。借此,可以用于適用于各種諸如對樣品內部結構觀察和各類分析等,為評價目的樣品的制作。*1平面研磨(Flat Milling)是位于日本國內的日立*有限公司的注冊商標。
IM4000PLUS是支持斷面研磨和平面研磨(Flat Milling®*1)的混合式離子研磨儀器。借此,可以用于適用于各種諸如對樣品內部結構觀察和各類分析等,為評價目的樣品的制作。
配備斷面研磨能力達到500 µm/h*2以上的高效率離子槍。因此,即使是硬質材料,也可以高效地制備出斷面樣品。
斷面研磨加工原理圖
平面研磨(Flat Milling®)加工原理圖
附冷卻溫度調節功能的IM4000PLUS
該功能可有效防止加工過程中,由于離子束照射引發的樣品的溫度上升,所導致樣品的溶解和變形。對于過度冷卻后會產生開裂的樣品,通過冷卻溫度調節功能可防止其因過度冷卻而產生開裂。
常溫研磨
冷卻研磨
大氣隔離樣品桿,可讓樣品在不接觸空氣的狀態下進行研磨。
密封蓋將樣品密閉,進入真空排氣的樣品室后,打開密封蓋。如此,離子研磨加工后的樣品可以在不接觸空氣的狀態下直接設置到SEM*1、FIB*1、AFM*2上。
大氣暴露
大氣隔離
IM4000、IM4000PLUS通過設置在樣品室上方的立體顯微鏡,可觀察到研磨過程中的樣品。
如果是三目型,則可以通過CCD攝像頭*3進行監控觀察。
項目 | 內容 | |
---|---|---|
IM4000PLUS | IM4000PLUS | |
斷面研磨桿 | 平面研磨桿 | |
使用氣體 | Ar(氬)氣 | |
加速電壓 | 0 ~ 6 kV | |
研磨速度(Si材料) | 500 µm/hr*1 以上 | - |
樣品尺寸 | 20(W)× 12(D)× 7(H)mm | Φ50 × 25(H) mm |
離子束 間歇照射功能 | 標配 | |
尺寸 | 616(W)× 705(D)× 312(H)mm | |
重量 | 機體48 kg+回轉泵28 kg | |
附冷卻溫度調節功能的IM4000PLUS | ||
冷卻溫度調節功能 | 通過液氮間接冷卻樣品、溫度設定范圍:0°C ~ -100°C | |
選項 | ||
空氣隔離 樣品夾持器 | 僅支持斷面研磨夾持器 | - |
FP版斷面研磨夾持器 | 100 µm/rotate*2 | - |
用于加工監控的顯微鏡 | 倍率 15 × ~ 100 × 雙目型、三目型(支持CCD) |
如果是大約500 µm的角型的陶瓷電容器,則可以3小時內制備出平滑的斷面。
低倍圖像
放大圖像
即使硬度和成分不同的多層結構材料,也可以制備斷面。
低倍圖像
放大圖像
這是通過鋰電池正極材料,斷面研磨獲得平滑截面的應用實例。
在SEM上觀察到的具有特殊對比度的部位,從SSRM(Scanning Spread Resistance Microscopy)圖像來看,考慮為電阻低的部位。
可以去除機械研磨所引起的研磨損傷和塌邊,并可觀察到金屬層、合金層和無鉛焊料的Ag分布。
機械研磨后
平面研磨后
因老化等變得臟污的觀察面、分析面,通過平面研磨,也可以獲得清晰的通道對比度圖像和EBSD模式。
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