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鄭州科探儀器設備有限公司


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桌面式小型濺射儀

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更新時間:2024-04-29 09:25:22瀏覽次數:102次

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經營模式:生產廠家

商鋪產品:582條

所在地區:河南鄭州市

聯系人:陳先生 (銷售)

產品簡介

桌面式小型濺射儀KT-Z1650PVD磁控濺射是一種常用的物理氣相沉積(PVD)的方法,具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好,成分接近靶材成分等眾多優點。

詳細介紹

桌面式小型濺射儀KTZ1650PVD

傳統的濺射技術的工作原理是:在高真空的條件下,入射離子(Ar+)在電場的作用下轟擊靶材,使得靶材表面的中性原子或分子獲得足夠動能脫離靶材表面,沉積在基片表面形成薄膜。但是,電子會受到電場和磁場的作用,產生漂移,因而導致傳濺射效率低,電子轟擊路徑短也會導致基片溫度升高,為了提高濺射效率,在靶下方安裝強磁鐵,和周圈分別為NS極。電子由于洛倫茲力的作用被束縛在靶材周圍,并不斷做圓周運動,產生更多的Ar+轟擊靶材,大幅提高濺射效率,如圖所示,采用強磁鐵控制的濺射稱為磁控濺射。

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桌面式小型濺射儀KTZ1650PVD廠家供應技術參數;

控制方式

7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V  電流≤1A

真空

機械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺

可旋轉φ62  (可安裝φ50基底)

樣品臺轉速

8轉/分鐘

樣品濺射源調節距離

40-105mm

真空測量

皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

預留真空接口

KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進氣口




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