主要特點
復合氧化物氫分離膜制備用CVD設備,可以實現在多孔氧化鋁陶瓷管和陶瓷片上化學沉積上氧化物(SiO2、Al2O3、TiO2、ZrO2)和復合氧化物(Al2O3-SiO2、SiO2-TiO2、SiO2- ZrO2)氫分離膜。
設備結構
1) 主體加熱為三段加熱系統,Z高使用溫度為1000℃;
2) 3個液態源加熱蒸發鼓泡器,Z高溫度300℃,獨立控溫。
3) 3路進氣系統,分別為氮氣、氬氣和氫氣,皆可直接進入混氣室載進入真空腔體,且流量分別可控,流量計控制精度為±1.5%F.S。另外氮氣作為吹掃氣,分別通過流量計并列進入三個液態源后再進入混氣室,三路均配有單獨閥門控制。
4) 陶瓷盲管長620mm,外徑12mm,內徑9mm。距離開口端250mm至350mm處,為孔徑0.2μm的沉積段,其余管外壁已釉封;
5) 陶瓷管開端在石英管一側固定并進行陶瓷管的內外密封(見示意圖1)。需要固定時間間隔,從陶瓷管內進行抽氣,滿足透出載氣的氣袋收集和流量檢測兩種功能,并實現兩種功能間的切換。
6) 陶瓷片樣品直徑30mm,厚度3mm。3個樣品臺,每個樣品臺上可同時放置3片陶瓷片樣品。
7) 設備空間盡量小。
8) 后端真空連接系統.
技術參數
爐體架構 | 上下開啟式 |
額定功率 | 7KW |
額定電壓 | AC 208-240V Single Phase,50/60 Hz |
Z高溫度 | 1000°C |
持續工作溫度 | ≤900°C |
推薦升溫速率 | 0-20 ℃/min |
爐管材質 | 310S鋼管 |
爐管尺寸 | 異形鋼管Φ80*1200mm+Φ25mm |
保溫裝置 | 爐管兩端配有保溫水冷法蘭裝置,便于取放 |
加熱區長度加熱區長度 | 200+200+200mm |
恒溫區長度 | 400mm |
控溫方式 | 模糊PID控制和自整定調節,智能化30段可編程控制,具有超溫和斷偶報警功能 |
控溫精度 | ±1℃ |
加熱元件 | 電阻絲 |
爐膛材質 | 氧化鋁纖維 |