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三溫區智能型等離子體化學沉積系統(BTF-1200C-III-500A-PECVD) 實驗室臭氧發生機

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更新時間:2023-06-06 09:45:03瀏覽次數:352次

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主要特點:此款智能型等離子體增強化學沉積系統的高溫真空爐加熱腔體采用進口氧化鋁纖維制品,其極低的熱導率和比熱容,保證了爐膛的快速升溫和低蓄熱,特別適合于制備大面積高質量低成本二維層狀半導體材料及其異質結

主要特點:

此款智能型等離子體增強化學沉積系統的高溫真空爐加熱腔體采用進口氧化鋁纖維制品,其極低的熱導率和比熱容,保證了爐膛的快速升溫和低蓄熱,特別適合于制備大面積高質量低成本二維層狀半導體材料及其異質結。加熱元件選用上下共16組電阻絲加熱,有利于爐內溫度場的均勻分布。高溫真空電阻爐溫度控制系統采用經典的閉環負反饋控制系統,控溫儀表選用智能型程序溫度調節儀表控溫,電力調制器控制;測溫元件采用K型熱偶。采用單回路溫控儀能夠自整定PID 參數,無須操作人員的干預,可自行根據不同溫度曲線的升、降溫要求調整輸出信號,同時系統設置了超溫、欠溫、斷偶報警保護功能,大大降低了對操作人員經驗的要求,關鍵電氣元件采用優質的進口產品,做到高性能、免維護,提高了設備質量的可靠性。

本設備集真空系統、氣路系統、射頻源、自動推進、加熱爐于一體,并將所有控制集成于觸屏操控界面之中,使設備更加智能化,便于使用者操作。增大了加熱區的長度及溫區數量,延長了爐管,使輝光長度達到了2000mm,同時保持很好的輝光均勻性。

加熱區參數:

爐管尺寸:外徑φ50*2000mm

爐管:高純度石英管Φ25506080100150x2000mm (管徑可選)

加熱元件:電阻絲(Fe-Cr-Al Alloy doped by Mo)
加熱區長度:600mm(200+200+200mm)
恒溫區長度: 400mm(100+200+100mm)

工作溫度:1100℃
Z高溫度:1200℃
控溫方式:模糊PID控制和自整定調節,智能化30段可編程控制,具有超溫和斷偶報警功能
控溫精度:±1℃

Z大升降溫速率:≤30℃/min

控溫方式:模糊PID控制和自整定調節,智能化30段可編程控制,具有超溫和斷偶報警功能。

標準配件:石英管1支,莫來石管堵2對,不銹鋼法蘭1套,氟膠密封圈2套,高溫手套1副,坩堝鉤1支;

尺寸約:2000×600×1500 mm(長、寬、高)

備注:可選配單溫區、雙溫區、三溫區等加熱區。

氣路系統參數:

質量流量計參考量程(N2):100sccm、200sccm、500sccm、1000sccm (量程可選)

準確度:±1.5%

線性:±0.5~1.5%

重復精度:±0.2%

響應時間:氣特性:1~4 Sec,電特性:10 Sec

工作壓差范圍:0.1~0.5 MPa

Z大壓力:3MPa

接口:Φ6,1/4''

顯示:4位數字顯示

工作環境溫度:5~45高純氣體

內外雙拋不銹鋼管:Φ6

壓力真空表:-0.1~0.15 MPa, 0.01 MPa/格

截止閥:Φ6

連接頭類型:雙卡套不銹鋼接頭。

備注:可選配一路、兩路、三路、四路等以上質量流量計。

低真空系統參數:

國產油泵型號:BSV-10

抽速:10m3/h

極限真空度:5*10-1pa

電源:220v 50hz

電機功率:0.4kw

進排氣連接口:KF25

用油量:1.1L

電機轉速:1440rpm

工作環境溫度:5-40℃

噪音:≤56db

電阻真空計參數:

1.配用規管:ZJ-52T電阻規,

2.測量范圍: 10 5 ~10 -1 Pa,

3.測量路數: 1路

4.控制范圍: 5×10 3 ~5×10 -1 Pa,

5.控制方式:繼電器觸點輸出,負載能力 AC220V/3A (或DC28V/3A)無感負載,

6.電源: 90-260V/50Hz或220V ± 10% 50Hz,

7.功耗: 20W

射頻源主要參數:

信號頻率:13.56 MHz±0.005%

功率輸出范圍:0-500W

Z大反射功率:100W

射頻輸出接口:50 Ω, N-type, female

功率穩定性:≤5W

諧波分量:≤-50dbc

供電電壓:單相交流(187V-253V) 頻率50/60HZ

整機效率:>=70%

功率因素:>=90%

冷卻方式:強制風冷

備注:可根據腔體大小選擇射頻源功率。


智能型雙溫區等離子化學氣相沉積系統(型號:BTF-1200C-II-A

主要特點:一、此設備的高溫真空電阻爐溫度控制系統采用經典的閉環負反饋控

三溫區智能型等離子體化學沉積系統(BTF-1200C-III-500A

主要特點:此款智能型等離子體增強化學沉積系統的高溫真空爐加熱腔體采用進

連續進出料等離子體增強回轉設備-BTF-1200C-RP-PECVD

主要特點該款設備是全自動Plasma增強CVD系統(PECVD)

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