OTF-1200X-II-ZL是一款爐管可在爐管內部移動的(在真空氣氛保護環境下移動)管式爐,至多可依次移動4個坩堝。特殊的坩堝推送機構,可將坩堝在爐管內推出后再拉回,讓坩堝能做往返移動。坩堝移動位置&爐體的溫度控制都采用一觸摸屏控制。此款設備可進行物理化學混合沉積(HPCVD),快速熱蒸發(RTE)等實驗,特別適合制備多層二維晶體材料。
技術參數
名稱 1200℃多坩堝依次移動型管式爐--OTF-1200X-II-ZL 開啟式管式爐 雙溫區管式爐:兩個獨立的溫控系統分別獨立控制兩個溫區 加熱區長度:溫區1:200mm, 溫區2:200mm 爐管材料:高純石英 爐管尺寸:外徑: 60 ×內徑: 54×長: 760 mm 溫度曲線圖(兩個溫區設置在800℃時所測,僅供參考) 工作溫度:1200℃(<1hr) 連續工作溫度:1100℃ 控溫精度:+/-1℃ 真空密封 配有不銹鋼密封法蘭,上面安裝有不銹鋼截止閥和機械壓力表。 進氣端法蘭接口為Φ6.35卡套接頭,出氣端法蘭接口為KF25接口。 法蘭密封圈采用水冷卻,使用時需要通入冷卻水,可在本公司選購循環水冷機。 真空度:10E-2 torr(采用機械泵),10-E5 torr(采用分子泵)。 坩堝移動機構(轉輪式法蘭) 一根鎧裝熱電偶通過左端法蘭通入到爐管內部,并與坩堝相連接(圖1)。 通過步進電機驅動使坩堝移動,并和熱電偶和坩堝一起移動,實時監測樣品的溫度。 進氣端法蘭轉輪式法蘭(圖2)。 可同時在轉輪系統中放入4個坩堝,可交替將放入4種材料的石英坩堝自動送入到石英管中(可在真空狀態或氣氛保護狀態進行運作)。 坩堝移動控制 通過一步進電機控制坩堝移動的速度和位置。 可控制坩堝較小移動位移為1mm。 坩堝較大移動距離為200mm。 防腐型數顯真空計 配有一數顯防腐型真空計。 當氣壓在10mbar以上時,不需因測量氣體種類不同而進行系數轉換。 對于氣體的壓力檢測具有較高的精確度和重復性。 因為傳感器上鍍有涂層,所以具有較好的抗腐蝕性。 測量范圍:3.8x10-5 -1125 Torr。 混氣系統 此套設備中配有一2路混氣系統 輸出功率:18W 工作溫度:5-45℃ 氣壓:3×106Pa 精度:±1%FS 質量流量計量程: 1:0-100sccm 2:1-199sccm 可根據客戶要求選購1-5路供氣系統 產品尺寸 2400mm(L)×600mm(W)×1300(H)mm 質保期 一年質保期,相關耗材除外,如爐管加熱元件密封圈易耗件 質量認證 CE認證 所有電器元件(>24V)都通過UL/MET/CSA認證 若客戶出認證費用,本公司保證單臺設備通過德國TUV認證或CSA認證。 國家 名稱:一種小型熱等靜壓爐裝置 編號:ZL-.0 使用注意事項 爐管內氣壓不高于0.02MPa。 由于氣瓶內部氣壓較高,所以向爐管內通入氣體時,氣瓶上必須安裝減壓閥,建議在本公司選購減壓閥,本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全。 當爐體溫度高于1000℃時,爐管內不可處于真空狀態,爐管內的氣壓需和大氣壓相當,保持在常壓狀態。 進入爐管的氣體流量需小于200SCCM,以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊。 石英管的長時間使用溫度<1100℃。 對于樣品加熱是實驗,不建議關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關閉氣閥對樣品加熱,則需要時刻關注壓力表的示數,若氣壓表示數大于0.02MPa,必須立刻打開泄氣閥,以防意外發生(如爐管破裂,法蘭飛出等) 應用注意事項 此款管式爐具有多種用途。 熱蒸發:把蒸發料放在坩堝里,通過移動坩堝來精確找到所需要的蒸發溫度。 HPCVD:和熱蒸發相似,可通入反應氣體與蒸發的物料反應后再沉積。 可用于制作多層二維晶體。 免責聲明 本站產品介紹內容(包括產品圖片、產品描述、技術參數等)僅供參考。可能由于更新不及時和網站不可預知的BUG造成數據與實物的偏差。如果您對參數有異議,或者想了解產品詳細信息,請與本公司銷售人員聯系。本站提供的信息不構成任何要約或承諾,科儀公司會不定期完善和修改網站任何信息,恕不另行通知,請您見諒。