當前位置：河南順博熱處理設備有限公司>>化學氣相沉積系統PECVD>>開啟式管式爐PECVD系統

開啟式管式爐PECVD系統

返回列表頁

參考價

面議

具體成交價以合同協議為準

產品型號S-1200K-CVD

品牌

廠商性質其他

所在地

在線詢價收藏產品查看聯系電話

聯系方式：查看聯系方式

更新時間：2023-03-16 12:26:53瀏覽次數：158次

聯系我時，請告知來自環保在線

產品分類 品牌分類

  化學氣相沉積系統PECVD

全部產品列表

暫無信息

河南順博熱處理設備有限公司

經營模式：其他

商鋪產品：53條

所在地區：

詢價 給他留言

產品簡介

開啟式管式爐PECVD系統由高溫管式爐,真空壓強控制系統,多通道高精度數字質量流量控制系統,過壓保護及冷凝等部分組成,可實現真空達0.1mbar混合氣體化學氣相沉積和擴散試驗。

詳細介紹

功能特點：
在真空壓力下，加在電感線圈的射頻電場，使反應室氣體發生輝光放電，在輝光發電區域產生大量的電子。這些電子在電場的作用下獲得充足的能量，其本身溫度很高，它與氣體分子相碰撞，使氣體分子活化。它們吸附在襯底上，并發生化學反應生成介質膜，副產物從襯底上解吸，隨主氣流由真空泵抽走，稱為等離子體增強化學氣相沉(PECVD)
產品用途：
PECVD開啟式管式爐系統由開啟式管式爐、高真空分子泵系統、射頻電源系統及多通道高精度數字質量流量控制系統組成，是實驗室生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等的理想選擇。
適用于高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備，生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等，也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用
產品參數