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河南順博熱處理設備有限公司


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開啟式管式爐PECVD系統

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產品型號S-1200K-CVD

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更新時間:2023-03-16 12:26:53瀏覽次數:158次

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產品簡介

開啟式管式爐PECVD系統由高溫管式爐,真空壓強控制系統,多通道高精度數字質量流量控制系統,過壓保護及冷凝等部分組成,可實現真空達0.1mbar混合氣體化學氣相沉積和擴散試驗。

詳細介紹

功能特點:
在真空壓力下,加在電感線圈的射頻電場,使反應室氣體發生輝光放電,在輝光發電區域產生大量的電子。這些電子在電場的作用下獲得充足的能量,其本身溫度很高,它與氣體分子相碰撞,使氣體分子活化。它們吸附在襯底上,并發生化學反應生成介質膜,副產物從襯底上解吸,隨主氣流由真空泵抽走,稱為等離子體增強化學氣相沉(PECVD)
產品用途:
PECVD開啟式管式爐系統由開啟式管式爐、高真空分子泵系統、射頻電源系統及多通道高精度數字質量流量控制系統組成,是實驗室生長薄膜石墨烯,金屬薄膜,陶瓷薄膜,復合薄膜等的理想選擇。
適用于高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備,生長薄膜石墨烯,金屬薄膜,陶瓷薄膜,復合薄膜等,也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用
產品參數

  • 控溫方式:采用人工智能調節技術,具有PID調節、自整定功能,并可編制30段升降溫程序。
  • 加熱元件:0Cr27Al7Mo2
  • 工作電源:AC220V 50Hz/60Hz
  • 額定功率:4kw
  • 爐管材質:高純石英管
  • 爐管尺寸:Φ60/Φ80*1200mm
  • 工作溫度:≤1150℃(可定制)
  • 溫度:1200℃(可定制)
  • 恒溫精度:±1℃
  • 恒溫區:200mm(可定制)
  • 升溫速度:≤10℃/min
  • 密封方式:不銹鋼快速法蘭擠壓密封
  • 極限真空:6.0×10-5Pa
  • 工作真空:7.6×10-4Pa
  • 產品配置:雙級旋片真空泵+分子泵
  • 測量方式:復合真空計
  • 真空規管:電阻規+電離規
  • 冷卻方式:風冷
  • 抽速:110L/S
  • 射頻電源系統
  • 射頻功率輸出范圍:5~500W
  • 射頻頻率:13.56MHz±0.005%
  • 噪聲:≤55DB
  • 冷卻方式:風冷
  • 功率溫定度:± 0.1%
  • 混氣系統流量規格:0-200sccm (可根據客戶需要配置)
  • 線性:±1.5%F.S
  • 準確度:±1.5%F.S
  • 重復精度:±0.2%F.S.
  • 響應時間:≤8sec
  • 耐壓:3MPa
  • 氣路通道:4通道(根據客戶需求)
  • 針閥:316不銹鋼
  • 管道:Φ6mm不銹鋼管
  • 接口:SwagelokΦ6mm


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