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實驗室滑軌爐PECVD系統(tǒng)設備

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產品型號S-1200H-CVD

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更新時間：2023-03-16 12:25:17瀏覽次數：176次

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河南順博熱處理設備有限公司

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產品簡介

實驗室滑軌爐PECVD系統(tǒng)設備通過滑動爐體來實現(xiàn)快速的升降溫,配置不同的真空系統(tǒng)來達到理想的真空度；同時通過多路高精度質量流量計控制不同氣體。

詳細介紹

功能特點：
本套PECVD系統(tǒng)通過滑動爐體來實現(xiàn)快速的升降溫，配置不同的真空系統(tǒng)來達到理想的真空度；同時通過多路高精度質量流量計控制不同氣體。是實驗室生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等的理想選擇
產品用途：
高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備，生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等，也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。
產品參數

爐體結構：雙層爐殼間配有風冷系統(tǒng)，有效保證外殼表面溫；
爐子底部裝有一對滑軌，移動平穩(wěn)
爐子可以手動從一端滑向另一端，實現(xiàn)快速的加熱和冷卻
爐蓋可開啟，可以實時觀察加熱的物料
電源電壓：AC220V 50/60Hz；
功率：4KW
爐管材質：高純石英管，高溫下化學穩(wěn)定性強，耐腐蝕，熱膨脹系數極小
爐管尺寸：Φ60*1250mm(可定制)
加熱系統(tǒng)：加熱元件采用優(yōu)質合金絲0Cr27Al7Mo2，表面負荷高、經久耐用
加熱區(qū)長度：400mm(可定制)
恒溫區(qū)長度：200mm(可定制)
工作溫度：≤1150℃(可定制)
溫度：1200℃(可定制)
升溫速率：10℃/min
極限真空：6.0×10-5Pa
工作真空：7.6×10-4Pa
溫控系統(tǒng)：溫度控制采用人工智能調節(jié)技術，具有PID調節(jié)、自整定功能、30段升降溫程序
測溫元件：N型熱電偶
恒溫精度：±1℃
混氣系統(tǒng)：四路質量流量計：數字顯示、氣體流量自動控制、內置不銹鋼混氣箱，每路氣體管路均配有逆止閥、管路采用不銹鋼管，接口為Φ6卡套、每路氣體進氣管路配有不銹鋼針閥、通過控制面板上的旋鈕來調節(jié)氣體流量
流量規(guī)格：0~200sccm
流量精度：±1.5%
高真空真空系統(tǒng)：采用雙級旋片真空泵+分子泵，極限真空可達4.0*10^-4Pa
復合真空計，配置電阻規(guī)+電離規(guī)
抽速：110L/S
冷卻：風冷
射頻電源系統(tǒng)輸出功率:0-300W
功率穩(wěn)定度：±0.1%
射頻電源頻率:13.56MHz 穩(wěn)定性±0.005%
反向功率:120W
射頻電源電子輸出端口:UHF
冷卻:風冷
電源:AC187-253V 50/60Hz
可選配件：混氣系統(tǒng),中、高真空系統(tǒng)，各種剛玉、石英坩堝，石英管，計算機控制軟件，無紙記錄儀，氧含量分析儀。