| 設備名稱 | 品牌廠商 | 型號 | 是否標配 | 規格 | 數量 | 報價類型 | 售后服務 | 成交價 |
| 高真空磁控濺射鍍膜機 | 沈陽-托帕 | CK400 | 是 | 1.系統主要由濺射室、永磁磁控濺射靶（三個靶）、直流電源、全自動調諧射頻電源、樣品臺、泵抽系統、真空測量系統、氣路系統、電控系統等組成。 2.濺射室極限真空度：≤6.6x10-5?Pa （經連續烘烤除氣后）；? 系統真空檢漏漏率：≤5.0x10-7Pa.l／S； 系統從大氣開始抽氣：濺射室40分鐘可達到6.6x10-4?Pa； 系統停泵關機12小時后真空度：≤5Pa 3.真空室為D型手動前開門結構，腔體打開方式采用手動前開門結構，表面進行電化學鈍化處理 4.濺射室中配有3套60高性能永磁共焦磁控濺射靶（濺射靶角度可調），各靶可獨立／順次／共同工作，磁控靶通水冷卻，磁控靶配有氣動擋板結構。 5.系統配有500W直流電源2臺，500W全自動調諧射頻電源1臺 6.加熱旋轉樣品臺可放置一片樣品，?具有連續旋轉功能，旋轉0—20轉／分連續可調，可加溫至500℃。 7.系統配有氣體質量流量控制進氣系統 。 8.安裝臺架：整個設備安放在一個用承載式標準電箱上，箱體均進行噴塑處理。拆卸方便占地小 9、提供冷卻水循環 | 1.0 | 國內含稅價; 人民幣 | 189800 |
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