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更新時間：2022-11-26 12:57:31瀏覽次數(shù)：104次
聯(lián)系我時，請告知來自 環(huán)保在線近位抽取多通道激光氨逃逸在線分析系統(tǒng)一、項目概述近位多通道激光氨逃逸分析系統(tǒng)是在近位抽取基礎(chǔ)上，針對監(jiān)測煙道較大，為使測量更具代表性，需要多點監(jiān)測的用戶需求，或者是需要多個監(jiān)測煙道同時測量、一個儀表控制的用戶需求
近位抽取多通道激光氨逃逸在線分析系統(tǒng)
近位多通道激光氨逃逸分析系統(tǒng)是在近位抽取基礎(chǔ)上，針對監(jiān)測煙道較大，為使測量更具代表性，需要多點監(jiān)測的用戶需求，或者是需要多個監(jiān)測煙道同時測量、一個儀表控制的用戶需求。用戶根據(jù)多路氨逃逸的測量數(shù)據(jù)，優(yōu)化、調(diào)整噴氨工藝，可以提高脫硝效率。近位多通道激光氨逃逸分析系統(tǒng)一個儀表控制多路氨逃逸測量系統(tǒng)，具備近位抽取激光氨逃逸分析系統(tǒng)的所有特點。
系統(tǒng)采用可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜（TDLAS）技術(shù)進(jìn)行NH3的測量，以可調(diào)諧激光器作為光源，發(fā)射出特定波長激光束，穿過待測氣體，通過分析被測氣體中NH3分子吸收導(dǎo)致的激光光強(qiáng)衰減，根據(jù)朗伯比爾定律，氣體濃度與其吸收光強(qiáng)成比例關(guān)系，從而實現(xiàn)高靈敏快速精確監(jiān)測待測氣體中NH3濃度。因為激光譜寬特別窄（小于0.0001nm），且只發(fā)出待測氣體吸收的特定波長，使得測量不受測量環(huán)境中其它成分的干擾，相比其它復(fù)合光源而言，具有的測量精度。
朗伯比爾定律：
其中光譜吸收系數(shù)：
根據(jù)脫硝氨逃逸測量點高溫、高濕、高粉塵、震動等工況特點以及測量濃度低、測量精度要求高等要求，方案采用了大方科技經(jīng)典的近位抽取+多反長光程測量池技術(shù)，一個儀表控制多路氨逃逸測量，每一路都有單獨的近位抽取分析測量系統(tǒng)。
系統(tǒng)由多路取樣分析單元和儀表組成，每路取樣分析單元單獨安裝于煙道上，煙氣經(jīng)采樣探頭取樣后直接進(jìn)入各自樣氣室進(jìn)行測量分析，無須伴熱管線。采用抽取方式可以避免煙塵和煙道振動等對測量的影響。近位抽取方式則避免了伴熱管線傳輸造成的響應(yīng)時間的影響。煙氣流經(jīng)管路及樣氣室全部采用高溫加熱，保證煙氣取樣過程中無氨氣吸附。分析單元采用多次反射樣氣室，測量光程可達(dá)30米，可大大提高檢測下限。
四、系統(tǒng)特點
1 采用TDLAS技術(shù)，不受背景氣體影響
系統(tǒng)采用可調(diào)諧二極管激光吸收光譜技術(shù)進(jìn)行氣體的測量，由于激光譜寬特別窄（小于0.0001nm），且只發(fā)射待測氣體吸收的特定波長，使測量不受測量環(huán)境中其它成分的干擾。
2 系統(tǒng)無漂移，避免了定期校正需要
系統(tǒng)采用波長調(diào)制光譜技術(shù)，并且進(jìn)行動態(tài)的補(bǔ)償，實時鎖住氣體吸收譜線，不受溫度、壓力以及環(huán)境變化的影響，不存在漂移現(xiàn)象。
3 全程高溫伴熱，避免氨氣吸附損失
抽取氣體直接進(jìn)入氣室，不需要經(jīng)過伴熱管線，煙氣接觸的流路全程高溫伴熱無冷點，避免氨氣吸附和損失，保證樣氣真實性。
4 采用多次反射樣氣室，極大地提高測量精度
系統(tǒng)采用多次反射測量池技術(shù)，光程可達(dá)30米，極大地提高了測量精度。
5 多路測量，更有代表性
單個儀表可以控制多達(dá)六路監(jiān)測，每路皆具有自動反吹控制，反吹間隔和反吹時長根據(jù)工況設(shè)置，有效避免濾芯堵塞，測量更有代表性。
6 安裝使用方便
分析系統(tǒng)適合安裝在不同工業(yè)環(huán)境下，模塊化設(shè)計，安裝方便，開機(jī)預(yù)熱后便可正常運行無需進(jìn)行現(xiàn)場光路調(diào)試。濾芯采用覆膜工藝制造，后置安裝，無需專業(yè)工具拆卸，更換和清理極其方便。
7 技術(shù)，便于維護(hù)光學(xué)器件
大方科技*的樣氣室設(shè)計，包含維護(hù)窗口，可以在不影響光路的情況下，對污染的光學(xué)器件進(jìn)行清潔，無需重新調(diào)節(jié)光路，讓維護(hù)更加快速方便。
8 儀表自檢及自恢復(fù)功能
大方科技分析儀帶有智能自檢及自恢復(fù)功能，軟件可以自動探測分析儀的測量異常狀態(tài)，可以通過自檢及自恢復(fù)，使分析儀重新恢復(fù)測量工作狀態(tài)。
9 自主知識產(chǎn)權(quán)
大方科技深耕TDLAS技術(shù)領(lǐng)域20年，針對國內(nèi)應(yīng)用現(xiàn)場監(jiān)測難點進(jìn)行專業(yè)和定制化開發(fā)，擁有數(shù)十項發(fā)明和軟件著作權(quán)，對產(chǎn)品擁有自主知識產(chǎn)權(quán)，產(chǎn)品具有高可靠性和適用性。
五、典型應(yīng)用：
大型機(jī)組、自備電廠脫硝氨逃逸監(jiān)測；
工業(yè)鍋爐脫硝氨逃逸監(jiān)測；
煉焦企業(yè)脫硝氨逃逸監(jiān)測。
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