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北京大方科技有限責任公司
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便攜式激光氨逃逸在線分析儀一、項目概述為滿足用戶不同點檢測，獲取噴氨濃度場分布以及氨逃逸濃度分布的快速在線測量需求，大方科技結合在脫硝氨逃逸在線監測的豐富經驗，開發了便攜式激光氨逃逸在線分析儀
便攜式激光氨逃逸在線分析儀
為滿足用戶不同點檢測，獲取噴氨濃度場分布以及氨逃逸濃度分布的快速在線測量需求，大方科技結合在脫硝氨逃逸在線監測的豐富經驗，開發了便攜式激光氨逃逸在線分析儀。產品采用一體化設計，具有輕便靈巧，安裝使用方便，測量精度高等特點。
系統采用可調諧半導體激光吸收光譜（TDLAS）技術進行NH3的測量，以可調諧激光器作為光源，發射出特定波長激光束，穿過待測氣體，通過分析被測氣體中NH3分子吸收導致的激光光強衰減，根據朗伯比爾定律，氣體濃度與其吸收光強成比例關系，從而實現高靈敏快速精確監測待測氣體中NH3濃度。因為激光譜寬特別窄（小于0.0001nm），且只發出待測氣體吸收的特定波長，使得測量不受測量環境中其它成分的干擾，相比其它復合光源而言，具有的測量精度。
朗伯比爾定律：
其中光譜吸收系數：
1 采用TDLAS技術，不受背景氣體影響
系統采用可調諧二極管激光吸收光譜技術進行氣體的測量，由于激光譜寬特別窄（小于0.0001nm），且只發射待測氣體吸收的特定波長，使測量不受環境中其它成分的干擾。
2 系統無漂移，避免了定期校正需要
系統采用波長調制光譜技術，并且進行動態的補償，實時鎖住氣體吸收譜線，不受溫度、壓力以及環境變化的影響，不存在漂移現象。
3 全程高溫伴熱，避免氨氣吸附損失
抽取式測量的分析方式采用全程高溫伴熱，確保無氨氣吸附損失。
4 采用多次反射樣氣室，極大地提高測量精度
系統采用多次反射測量池技術，光程可達20米，極大地提高了測量精度。
5 小巧輕便，便于攜帶
分析儀一體化設計，小巧輕便，便于攜帶。探桿長度設計成 0.5m 標準桿，兩頭可銜接，可以根據測量的工況很方便的調整探桿長度。
6 安裝調試靈活
分析系統適合安裝在不同工業環境下，模塊化設計，安裝使用方便，開機預熱后便可正常運行無需進行現場光路調試。
7 儀表自檢及自恢復功能
大方科技分析儀帶有智能自檢及自恢復功能，軟件可以自動探測分析儀的測量異常狀態，可以通過自檢及自恢復，使分析儀重新恢復測量工作狀態。
8 自主知識產權
大方科技深耕TDLAS技術領域20年，針對國內應用現場監測難點進行專業和定制化開發，擁有數十項發明和軟件著作權，對產品擁有自主知識產權，產品具有高可靠性和適用性。
四、典型應用：
脫硝工藝噴氨優化；
氨逃逸實驗數據采集；
環保氨逃逸抽查測量。
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