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低壓等離子清洗機 Diener NENO系列

低壓等離子技術，氣體在真空中通過獲取能量從而被激發。等離子由高能離子、高能電子以及其它反應粒子組成。由上，材料表面可以被有效的改變。等離子效應可分為以下三類：

一微砂噴射：材料表面通過離子轟擊被消減

二化學反應：材料表面與離子化的氣體發生化學反應

三紫外線放射：紫外射線將長鏈碳化合物分解

NANO多種配置，滿足不同客戶需求

VERSION A

VERSION C

VERSION D

VERSION B

VERSION E

Nano 等離子系統能夠以不同的形式進行整合，例如以模塊系統的形式。在下文中您可以大致了解能夠與 Nano 等離子系統一同使用的見的選裝件： Nano 等離子系統主要應用于以下領域：

技要參數：

	Nano系列
控制系統	半自動型 PCCE 控制系統 (MicrosoftWindows CE) PC 控制系統 (Microsoft Windows POS Ready 2009)
體積	18~36L
真空腔室	圓形不銹鋼件，配有蓋子（大約Φ267 mm, 長 420 mm 或者長 600 mm）或者矩形不銹鋼件，配有鉸鏈的門（約寬 240 mm x 高 240 mm x 深 420 mm 或者 600 mm）配有蓋子的圓形鋁材，或者配有鉸鏈的門（大約Φ 240 mm, 長 400 mm 或者長 600 mm）配有蓋子的圓形石英玻璃 (UHP)，或者配有鉸鏈的門（大約Φ240 mm, 長 400 mm 或者長 600 mm）配有蓋子的圓形硼硅玻璃 (UHP)，或者配有鉸鏈的門（大約Φ 240 mm, 長 400 mm 或者長 600 mm）
電極	單層或多層 RIE
樣品支架	（選項：水冷型）、石英玻璃舟皿、粉末轉鼓、散裝件轉鼓、鋁板、不銹鋼板、硼硅玻璃、石英玻璃
氣源	針型閥質量流量控制器 (MFCs)
壓力計	Pirani Baratron（適用于腐蝕性氣體版本）
計時器	數字型
高頻電流發生器	40 kHz: 功率 0 - 300 W；0 -1000 W 13.56 MHz: 功率 0 - 100 W；0 - 300 W 2.45 GHz: 功率 0 - 600 W 所有發生器均為 0 - 99% 無級可調型
真空泵	規格和制造商均各有不同（按照活性炭過濾器的需要）
電源	臺式設備為 230 V，立式設備為 400 V/3 相位