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立式CVD系統

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更新時間:2022-07-22 14:15:13瀏覽次數:523次

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CVD系統應用:CVD是化學氣相沉積的英文簡寫,本公司生產的CVD系統是利用管式爐加熱,把構成固態沉積物的氣態反應劑或液態反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入爐管內,在爐管內使氣態或蒸汽狀態的化學物質在氣相或氣固界面上經化學反應形成固態沉積物的技術。CVD系統分類:CVD技術常常通過反應類型或者壓力來分類,包括低壓CVD(LPCVD),常壓CVD(APCVD),亞常壓CVD(SACVD),超高真空C......

產品名稱:立式CVD系統
產品型號: CVD-V12DZVK 單溫區立式CVD系統
      CVD-V12DZDVK 雙溫區立式CVD系統
      CVD-V12DZTVK 三溫區立式CVD系統
      CVD-V15DZVK 單溫區立式CVD系統
      CVD-V15DZDVK 雙溫區立式CVD系統
      CVD-V15DZTVK 三溫區立式CVD系統

      CVD-V17DZVK 單溫區立式CVD系統


立式CVD系統

CVD
系統應用:

CVD是化學氣相沉積的英文簡寫,本公司生產的CVD系統是利用管式爐加熱,把構成固態沉積物的氣態反應劑或液態反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入爐管內,在爐管內使氣態或蒸汽狀態的化學物質在氣相或氣固界面上經化學反應形成固態沉積物的技術。

 

CVD系統分類:

CVD技術常常通過反應類型或者壓力來分類,包括低壓CVD(LPCVD),常壓CVD(APCVD),亞常壓CVD(SACVD),超高真空CVD(UHCVD),等離子體增強CVD(PECVD),高密度等離子體CVD(HDPCVD)以及快熱CVD(RTCVD)。然后,還有金屬有機物CVD(MOCVD),根據金屬源的自特性來保證它的分類,這些金屬的典型狀態是液態,在導入容器之前必須先將它氣化。

 

CVD系統組成:

CVD系統=管式爐+真空抽氣系統+多路供氣系統(或者液態蒸發系統


 


立式CVD系統配置選擇:

配置一:立式管式真空氣氛爐:

VSK2-12DZ 單溫區立式管式真空氣氛爐,1200℃,管徑:50、60、80、100mm

VSK2-12DZD 雙溫區立式管式真空氣氛爐,1200℃,管徑:60、80、100mm

VSK2-12DZT 三溫區立式管式真空氣氛爐,1200℃,管徑:60、80、100mm

VSK2-15DZ 單溫區立式管式真空氣氛爐,1500℃,管徑:60、80mm

VSK2-15DZD 雙溫區立式管式真空氣氛爐,1500℃,管徑:60、80mm

VSK2-15DZT 三溫區立式管式真空氣氛爐,1500℃,管徑:60、80mm

VSK2-17DZ 單溫區立式管式真空氣氛爐,1700℃,管徑:60、80、100mm




配置二:真空抽氣系統:
     可以選配:LVSE-0.1LVSE-0.1AHVSE

LVSE-0.1低真空控制系統
產品應用:

該系統為一組低真空機組設備,控制設備真空度小于1Pa一下;配合真空管式爐、箱式氣氛爐等真空設備使用

設備組成:設備由真空法蘭、高真空擋板閥、電阻真空計、真空波紋管、支架、真空泵組成

技術參數:

1、 真空泵:FX-16

2、 真空泵抽氣速度:16m3/h4L/s

3、 真空泵極限壓強:(Pa)≤4*10-2

4、 高真空擋板閥:KF25不銹鋼高真空擋板閥

5、 真空波紋管:KF25*1000mm

6、 真空計VRD-I:規管型號ZJ-53B/ZJ-54D短絲熱偶規

7、 電源功率:220v/50Hz0.8kw

8、 出氣進氣口規格:KF25

9、 連接口:2KF25接口


低真空系統



 

 LVSE-0.1A可調低真空控制系統


產品應用:
   該系統為一組低真空恒壓機組設備,控制設備真空壓力恒定在1.0KPa—100.0KPa之間;配合真空管式爐、箱式氣氛爐等真空設備使用

設備組成:設備由真空法蘭、高真空擋板閥、電阻真空計、真空波紋管、支架、真空泵、變速器、電動調節閥門等組成

技術參數:

1、 真空泵:FX-16

2、 真空泵抽氣速度:16m3/h4L/s

3、 真空泵極限壓強:(Pa)≤4*10-2

4、 高真空擋板閥:KF25不銹鋼高真空擋板閥

5、 真空波紋管:KF25*1000mm

6、 真空計:VRD-I:

7、 規管型號ZJ-53B/ZJ-54D短絲熱偶規

8、 電源功率:220v/50Hz0.8kw

9、 調速變頻器:0.75kw

10、      壓強控制范圍:1.0KPa—100KPa

11、      壓強控制精度:±1KPa

12、      出氣進氣口規格:KF25

13、      連接口:2KF25接口

                
可調真空系統





HVSE高真空控制系統:

產品應用:
   該系統為一組復合分子泵、前級抽氣泵機組設備,控制設備真空度小于
8*10-4Pa;配合真空管式爐、箱式真空氣氛爐等高真空設備使用;廣泛應用于表面分析、半導體設備、等離子體技術、電真空器件的制造及真空技術研究

設備組成:設備由復合分子泵、前級抽氣泵、隔斷放氣閥、前級管路、分子泵電源、高真空檢測系統(復合真空計)、控制電源組成

產品特點:

預抽氣旁路設計,前級抽氣不經過分子泵避免預抽氣體中顆粒進入分子泵

技術參數:

1、 前級真空泵:TRP-24

2、 真空泵抽氣速度:4L/s

3、 分子泵:FJ-620

4、 抽氣速率:600L/s

5、 分子泵極限壓強:6*10-6Pa

6、 建議啟動壓強:<100Pa

7、 排氣口法蘭:KF40

8、 進氣口法蘭:DN160LF

9、 波紋管:KF40*1000mm

10、      復合真空計:ZDF-III

11、      真空電磁擋板閥:KF40

12、      真空腔體真空度:<8*10-4Pa

13、      工作電壓:220v/50Hz

高真空系統



 


配置三:多路供氣系統:

ZDS-X多路質子流量計控制供氣系統

系統應用:
  ZDS-X多路質子流量計控制供氣系統是實現多種氣體不同流量混合配比的供氣系統

設備組成:多路進氣管路、質子流量計、混氣罐、出氣管路組成

產品特點:

1、 幾路進氣客戶自由定制,標準接口,方便連接

2、 液晶觸摸屏控制輸入每路氣體流量,實時查看各路氣體流量曲線

3、 每條氣路均設置高壓截止閥,方便切斷氣路

技術參數:

1、 氣體通路:X條客戶自由定制

2、 氣體類型:客戶自由選擇

3、 流量計量程:5—500SCCM1—10SLM自由選擇

4、 工作電壓:220v/50Hz

5、 工作壓差:0.1-0.5MPa

6、 壓力:3MPa

7、 準確度:±1.0%F.S

8、 質子流量計相應時間:<1S

9、 測量范圍:0.1-0.15MPa

10、      混氣罐:304不銹鋼

11、      進出氣接口:直徑6mm不銹鋼卡套接口

12、      管道:內部管道采用直徑6mm不銹鋼管;外部管采用6mm聚四氟管

13、      控制系統:PLC控制系統,液晶觸摸屏輸入,每路氣路獨立控制



多路質子流量控制系統




FDS-X多路浮子流量計控制供氣系統


系統應用:
   FDS-X多路浮子流量計控制供氣系統是實現多種氣體不同流量混合配比的供氣系統

設備組成:多路進氣管路、浮子流量計、混氣罐、出氣管路組成

產品特點:

1、 幾路進氣客戶自由定制,標準接口,方便連接

2、 手動調節浮子流量計,方便快接

3、 每條氣路均設置高壓截止閥,方便切斷氣路

技術參數:

1、 氣體通路:X條客戶自由定制

2、 氣體類型:客戶自由選擇

3、 流量計量程:10-100ml/min25-250ml/min50-500ml/min自由選擇

4、 壓力表:-0.1MPa---0.15MPa0.01MPa/

5、 混氣罐:304不銹鋼

6、 進出氣接口:直徑6mm

7、 管道:內部管道采用直徑6mm不銹鋼管


多路浮子流量控制系統






立式CVD系統

CVD系統應用:CVD是化學氣相沉積的英文簡寫,本公司生產的CVD系統

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