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真空手套箱蒸發(fā)源的材料有什么要求

時(shí)間:2021-11-18閱讀:161
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真空手套箱是一種產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)。在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來(lái)打到被鍍物體的表面上。此項(xiàng)技術(shù)用于生產(chǎn)激光唱片(光盤(pán))上的鋁鍍膜和由掩膜在印刷電路板上鍍金屬膜。
厭氧手套箱中對(duì)蒸發(fā)源的材料要求有哪些?
通常對(duì)蒸發(fā)源應(yīng)考慮蒸發(fā)源的材料和形狀,一般對(duì)蒸發(fā)源材料的要求是:
(1)熔點(diǎn)高。因?yàn)檎舭l(fā)材料的蒸發(fā)溫度(平衡蒸汽壓為1.3Pa的溫度)多數(shù)在1000~2000℃之間,因此,蒸發(fā)源材料的熔點(diǎn)應(yīng)高于此溫度。
(2)平衡蒸汽壓低。這主要是防止或減少高溫下蒸發(fā)源材料隨蒸發(fā)材料蒸發(fā)而成為雜質(zhì),進(jìn)入蒸鍍膜層中。只有在蒸發(fā)源材料的平衡氣壓足夠低時(shí),才能保證在蒸發(fā)時(shí)具有最小的自蒸發(fā)量,才不致影響系統(tǒng)真空度和污染膜層,為了使蒸發(fā)源材料所蒸發(fā)的數(shù)量非常少,在選擇蒸發(fā)溫度、蒸發(fā)源材料時(shí),應(yīng)使材料的蒸發(fā)溫度低于蒸發(fā)源材料在平衡氣壓為1.3×10-6Pa時(shí)的制備高質(zhì)量的薄膜可采用與1.3×10-3Pa所對(duì)應(yīng)的溫度。
(3)化學(xué)性能穩(wěn)定,在高溫下不應(yīng)與蒸發(fā)材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。在高溫下某些蒸發(fā)源材料,與蒸發(fā)材料之間會(huì)產(chǎn)生反應(yīng)及擴(kuò)散而形成化合物和合金。特別是形成低共熔點(diǎn)合金蒸發(fā)源容易燒斷。例如在高溫時(shí)鉭和金會(huì)形成合金,鋁、鐵、鎳、鈷也會(huì)與鎢、鉬、鉭等蒸發(fā)源材料形成合金。鎢還能與水或氧發(fā)生反應(yīng),形成揮發(fā)性的氧化物如WO、WO2或WO3;鉬也能與水或氧反應(yīng)而形成揮發(fā)性MoO3等。因此,應(yīng)選擇不會(huì)與鍍膜材料發(fā)生反應(yīng)或形成合金的材料做該材料的蒸發(fā)源材料。
作為厭氧手套箱機(jī)蒸發(fā)源的材料必須具備熔點(diǎn)高、揮發(fā)低、高溫冷卻后脆性小等性質(zhì)。常用的線狀蒸發(fā)源應(yīng)能與蒸發(fā)金屬相潤(rùn)濕,熔點(diǎn)遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于待鍍金屬的蒸發(fā)溫度,不與待鍍金屬發(fā)生反應(yīng)生成合金。

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