原子層沉積系統ALD

標準型（Standard ）設備價格低、質量高、可任選附件進行搭配

結構簡單，操作方便，后期維護簡單易行用途廣，適合各種基底材料

原子層沉積系統，ALD——擴展型（Flexivol）設備腔室體積可根據用戶樣品的尺寸靈活調節，同一腔室可通過簡單的調節用于不同厚度的樣品

增多前驅體源入口數目，避免腔室體積增大對前驅體化學源氣氛分布的影響ALD原子層沉積系統——高度定制化（Non-Standard）設備為工業客戶提供薄膜沉積方案放大基于標準研究型設備檢驗的相同技術根據客戶的特殊需求，加工定制，滿足特殊應用及大規模的生產需要

研發（R&D）服務

多段溫度控制

前驅體溫控0-200 °C，精度1 °C

腔室溫控0-300 °C ，精度1 °C

進出腔室管路溫控0-150 °C ，精度1 °C

基本壓強　10^−1/10^−3 mbar

設備尺寸　1000x600x1000 mm

觸控控制系統

系統當前狀態信息顯示：氣流速度、溫度、壓力和閥門開度等

工藝監控：溫度和壓力等

偏差報警和安全鎖

菜單操作，實時監控

可增配選項

等離子體發生器 借助等離子化的氣態原子替代水作為氧化物來增強ALD性能

臭氧發生器 提供強氧化劑，增大ALD生長的前驅體選擇范圍

石英晶體微天平在線監測薄膜沉積的厚度