上海實(shí)貝儀器設(shè)備廠
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詳細(xì)摘要： HMDS預(yù)處理真空烘箱一、預(yù)處理系統(tǒng)的必要性：在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，而涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝顯得更為必要...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2022-06-08 在線留言
詳細(xì)摘要： HMDS預(yù)處理真空烘箱一、HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性：在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝顯得更...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2022-06-07 在線留言
詳細(xì)摘要： HMDS預(yù)處理真空烘箱一、HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性：在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝顯得更...
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