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300鐘罩鍍膜機(jī)

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產(chǎn)品簡介

300鐘罩鍍膜機(jī)

詳細(xì)介紹

300鐘罩鍍膜機(jī)

型號		EVAP400S
主真空室		方形前開門結(jié)構(gòu)，尺寸L×W×H:400×400×450mm
進(jìn)樣室(選配)		開門結(jié)構(gòu)，尺寸約為?200 X 300mm
真空系統(tǒng)配置	主真空室	復(fù)合分子泵、機(jī)械泵、氣動(dòng)閘板閥
真空系統(tǒng)配置	進(jìn)樣室	機(jī)械泵、分子泵、閥門
極限壓力	主真空室	≤6. 67x10-5pa(經(jīng)烘烤除氣后）
極限壓力	進(jìn)樣室	≤6.67X10-4 pa(經(jīng)烘烤除氣后）
恢復(fù)真空時(shí)間	主真空室	30分鐘可達(dá)到6. 6x10-4 pa(系統(tǒng)短時(shí)間暴露大氣并充干燥氮?dú)忾_始抽氣）
恢復(fù)真空時(shí)間	進(jìn)樣室	30分鐘可達(dá)到6. 6x10-3 Pa (系統(tǒng)短時(shí)間暴露大氣并充干燥氮?dú)忾_始抽氣）
磁控靶組件		2-4套永磁靶；靶材尺寸?60mm (其中一個(gè)可濺射磁性材料）；各靶射頻濺射和直流濺射兼容；靶內(nèi)水冷；三個(gè)靶可共同折向上面的樣品中心；靶與樣品距離90~110mm可調(diào)；每個(gè)靶配氣動(dòng)擋板。
基片加熱臺	樣品尺寸	?3英寸
	運(yùn)動(dòng)方式	基片可連續(xù)回轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速0-30rpm
	加熱	基片加熱溫度600℃±1℃
	擋板形式	進(jìn)口SMC轉(zhuǎn)角氣缸控制
工藝氣路系統(tǒng)		質(zhì)量流量控制器2-4路
*可選部件	進(jìn)樣室磁控靶組件	永磁靶，靶材尺寸? 60mm。
	膜厚儀	國產(chǎn)/進(jìn)口
	*氣泵	無油潤滑
	計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)	自動(dòng)控制、工藝讀入、參數(shù)設(shè)置、實(shí)時(shí)監(jiān)控等功能
設(shè)備占地面積	主機(jī)	1800X1200mm2
設(shè)備占地面積