設備名稱：
CEW-2000型半軸熒光磁粉探傷機
概述：
CEW-2000型半軸熒光磁粉探傷機系機電一體式半自動熒光磁粉探傷設備，由電源控制系統、夾持磁化系統、磁懸液系統、熒光系統等幾大部分組成。適用于以濕式磁粉法檢測由鐵磁性材料制成的小型管、軸棒類等零件的表面及近表面因鑄造、鍛造、加工、疲勞等各種原因引起的裂紋和各種細微缺陷。
本設備采用手動、自動兩種運行方式，由可編程控制器（PLC）集中控制。手動時，可進行每個功能的單步獨立操作；自動時，設備自動執行PLC內部程序，工件上料到位夾緊后，按“啟動"鍵即可自動執行轉動噴淋——磁化——轉動觀察等一系列動作。周向磁化采用直接通電，縱向磁化采用兩組線圈，具有良好的磁化效果。復合磁化在工件上形成旋轉磁場，一次性顯示磁跡，具有較高的工作效率。
主要技術參數：
1、 周向磁化電流：AC 0-2000A有效值，連續可調；
2、 縱向磁化磁勢：AC 0-12000AT有效值，連續可調，
DC 0-6000AT半波兩倍于平均值, 連續可調；
3、 磁化靈敏度：15/50A 1型試片顯示清晰；
4、 暫載率：≥30%；
5、 電極間距： 400-1100mm，連續電動可調；
6、 工作方式：手動、自動運行；
7、 磁化方式：周向、縱向、復合磁化；
8、 電極間距調整方式：電動；
9、 夾緊方式：氣動；
10、 退磁方式：自動衰減式退磁；
11、 周向退磁電流：AC 2000-0A，有效值，連續可調，
縱向退磁磁勢：AC 12000-0AT，有效值，連續可調，
DC 6000-0AT，平均值，連續可調；
12、 交流充退磁效果：≤160A/M（0.2mT）；
13、 紫外線強度：距光源380mm工件表面處≥1000μW/㎝2；
14、 電源：三相四線380V±10% 50HZ 瞬時100A；
15、 外形尺寸：2200（長）×700（寬）×1600（高）mm；
16、 重量：約1000Kg。
探傷原理探傷原理：
周向磁化采用直接通電，電流沿工件軸向通過，在工件上產生周向磁場，假如存在與磁通線相交的裂紋或近表面缺陷，則在裂紋兩側立即產生N和S兩磁極，部分磁通進入附近的空間，形成能吸附磁粉和裂紋指示的泄漏磁通場，由此可檢測工件上的縱向裂紋。用線圈法對工件縱向磁化，產生軸向磁場，同理，可檢測工件上的周向裂紋。同時施加周向和縱向磁化電流，即復合磁化，在工件表面和近表面形成交變的旋轉的矢量磁場，在連續法探傷檢查時，可檢測工件表面和近表面各個方向的裂紋和缺陷。
