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目錄:盛美半導體設備（上海）股份有限公司>>先進封裝>> 濕法去膠設備-石灰石-石膏濕法

濕法去膠設備-石灰石-石膏濕法
  • 濕法去膠設備-石灰石-石膏濕法
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更新時間：2021-10-12 09:26:13瀏覽次數：4028評價

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盛美的半導體濕法去膠設備專為高效便捷的光刻膠（PR）剝離清洗應用而設計。

濕法去膠設備

槽式去膠單元-在槽式單元中使用藥液浸泡晶圓，該槽體一次可容納多片晶圓以提高產能。
單片去膠腔體-將藥液噴灑在旋轉晶圓表面，更好地獨立控制每片晶圓工藝。

主要優勢

使用便捷

精確的藥液控制

槽式單元預浸泡工藝

藥液回收使用可減少成本

優化安全配置

結合先進的晶圓清洗工藝


特性和規格

兼容8寸和12寸晶圓

配有浸泡槽體

配有單片去膠腔體，包括：
a.最多可配至5種藥液進行雙面清洗工藝
b.最多可回收2種藥液
c.單片腔體可搭載空間交變相位移兆聲波(SAPS)組件
d.可選配有高壓solvent/DIW噴洗

 

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