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北京眾星聯恒科技有限公司

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反射式EUV測試圖案

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更新時間:2021-06-29 18:36:17瀏覽次數:228次

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反射式EUV測試圖案

公司介紹:

NTT-AT有著多年的X射線、極紫外光學配件的研發與銷售經驗。在范圍內,通過與眾多來自同步輻射科學,阿秒科學,高強度物理學等領域的科學研究者開展緊密合作,積累了大量*的設計與制造技術,其產品在業內享有很高的評價。NTT-AT提供的菲涅爾波帶片有著高分辨率,高聚光效率等特點,適合被各種輻射光設施使用。另外,分辨率測試卡被當作業界的標準。不只是學術研究,在X射線的檢查裝置開發現場也被廣泛使用。XUV鏡片,XUV濾波片不僅對阿秒科學有著幫助,對下一代的光刻研究也有這重要作用。NTT-AT將在XUV,EUV, X線領域給予客戶在研發上的幫助。

產品介紹:

· 反射型。

· 可提供圖案:線寬和縫寬80 nm以下。其他圖案還在研發中。

· 線上可以加工“缺口",線之間可以加工“橋接"用于標記。

北京眾星聯恒科技有限公司

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· 由于設計靈活,所以性能更高,成本也更低。

· 正在開發50 nm及以下的線縫和縫寬圖案。在有限條件下,可以提供圖案分辨率樣本。


多層膜半反鏡

多層膜半反鏡

UV聚焦鏡

UV聚焦鏡

XUV高反射率鏡

XUV高反射率鏡

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