X射線相襯微米CT系統(tǒng)
和傳統(tǒng)的X射線吸收成像相比，X射線相位襯度成像能夠?yàn)檩p元素樣品提供高得多的襯度，特別適合
用于對(duì)軟組織和輕元素構(gòu)成的樣品進(jìn)行成像。目前，主要的5類相襯成像方式中，大部分對(duì)光源的相干性
要求很高， 只能依賴同步輻射光源。由于同步輻射源占地面積大， 初期建設(shè)和日常使用及維護(hù)成本太
高，現(xiàn)階段還無(wú)法滿足臨床上日常檢查的需求，世界上很多從事相襯成像方法研究的小組都在致力于將
相襯成像技術(shù)推廣到臨床上。目前己經(jīng)普遍使用的微焦點(diǎn)源或者是傳統(tǒng)的X光管，從數(shù)值模擬和實(shí)驗(yàn)結(jié)果
來(lái)看，在進(jìn)行微焦點(diǎn)源同軸相襯成像實(shí)驗(yàn)時(shí)，會(huì)遇到曝光時(shí)間長(zhǎng)、光源相干性差、X光能量選擇性受限等
問(wèn)題。
眾星聯(lián)恒科技科技有限公司致力于為X射線科研用戶提供一站式服務(wù)。在同軸相襯成像應(yīng)用領(lǐng)域，我們和眾多的設(shè)備供應(yīng)商以及國(guó)內(nèi)外研究所建立了良好的合作關(guān)系，無(wú)論是對(duì)光源、光學(xué)組件、探測(cè)器等核心部件有需求的系統(tǒng)搭建型研究客戶，還是希望獲得系統(tǒng)解決方案的客戶，我們都能提供專業(yè)、高效的服務(wù)。
典型系統(tǒng)配置一
| 光源 | 探測(cè)器 | 重構(gòu) | |||
5μm焦斑尺寸@4W | 40-100KV,20W | 分辨率 | 4K×4K pixels | 物體尺寸(直徑和高) | Offset scan:56mm?, height 43mm |
| 2K×8K pixels | （4K×4K） | ||||
| 像素尺寸 | 8μm×8μm | （4K×4K） | |||
| 2μm焦斑尺寸@4W | 40-110KV,16W | MTF@60KV | 80%@10LP/mm | Single scan:32mm?,height 32mm | |
| 50%@45LP/mm | （4K×4K） | ||||
| 30%@64LP/mm | Offset scan:89mm? ,height 27mm | ||||
| DQE@60KV | 40%@10LP/mm | （2K×8K） | |||
| 22%@45LP/mm | Single scan:65mm?,height 16mm | ||||
| 11%@64LP/mm | （2K×8K） | ||||
典型系統(tǒng)配置二
| 靶材 | l1液態(tài)金屬流 | l2液態(tài)金屬流 | 探測(cè)器 | |||
| 9.2KeV峰值亮度 | 2.6×10^10 | 1.6×10^10 | 像素?cái)?shù) | 2.5K×2.2K | 4.1K×4.1K | 6.1K×6.1K |
| 24.1KeV峰值亮度 | 2.2×10^9 | 3.7×10^9 | 分辨率 | 2.6μm | 4.9μm | 5.8μm |
| 電壓 | 30-160KV | 體素尺寸 | 1.2μm | 1.7μm | 2.0μm | |
| 最小焦斑尺寸 | 6 | 視場(chǎng) | 4.0mm×3.4mm | 32mm×32mm | 80mm×80mm | |
| 功率@最小焦斑 | 52 | 樣品尺寸 | 40mm | 40mm | 60mm | |
| 焦斑尺寸@功率 | 18 | 幀率 | 40fps | 4fps | 45fps | |
| 功率 | 250 | |||||
貝爾胡椒種子測(cè)試
Kevlar復(fù)合材料測(cè)試
相對(duì)測(cè)試結(jié)果 非相襯測(cè)試結(jié)果
樣品前視圖（左）和相襯成像顯示10 μm不均勻線結(jié)構(gòu)
環(huán)保在線