1、升級后的新產品-環境掃描技術的高分辨場發射掃描電鏡。
2、齊全的配置
Quattro 場發射掃描電鏡給用戶配置了高真空的二次電子探頭，低真空的二次電子探頭，環境真空下的二次電子探頭，以及背散射電子探頭，和紅外CCD 探頭。能滿足用戶在日后工作中所有可能遇到的情況，以降低用戶對樣品制備的要求。
低真空/環境真空技術使得不導電樣品和/或含水樣品不經導電處理即可直接成像和分析，樣品表面無電荷累積現象。
3、*的電子光學技術成熟的肖特基場發射電子槍、固定式末級光闌、60°/45°兩級錐度極靴、大工作距離精密聚焦技術等，能對導電和不導電樣品進行EDS/EBSD 分析，在高真空模式，低真空模式，或環境真空模式。
穩定的大束流(200 nA) 確保能譜及EBSD 分析工作的快速與準確。
4、“穿過透鏡” 壓差真空系統設計
普通高真空掃描電子顯微鏡的樣品室和鏡筒都處于高真空狀態，要求所分析的樣品必須是固體的導電樣品，如果樣品不是固體和導電的，需要對樣品進行處理，使樣品達到要求。然而，在研究工作中所遇到的樣品中，固體導電樣品只是很少一部分，通常我們還會遇到非導電固體樣品，表面含水、含油的固體樣品以及非固態樣品。
在環境掃描電子顯微鏡中，通過特殊的真空系統設計，采用三個區域兩個不同的泵來抽真空，樣品室的真空度降低，使得不適應高真空的樣品能夠保持保持原始狀態，在掃描電子顯微鏡中進行觀察和分析。
與此同時，掃描電子顯微鏡的鏡筒部分仍然處于高真空狀態，滿足電子光學系統的要求。在環境掃描電子顯微鏡中，通過向樣品室充水汽，可保持含水樣品和生物樣品的原始狀態。FEI/飛利浦環境掃描電子顯微鏡的樣品室氣體壓力可在10Pa ～ 4000Pa 之間改變，達到樣品中水的平衡，或進行樣品的脫水、增濕測試。
5、二次電子探測器
在普通高真空掃描電子顯微鏡中，采用的是E‐T 二次電子探測器。這種探測器在低真空狀態下不能工作。為了能夠在樣品室低真空狀態下探測二次電子信號，FEI/飛利浦公司開發了低真空二次電子探測器GSED。
GSED 二次電子探測器的分辨率可達到< 1.4 nm ，與普通高真空電鏡的分辨率指標相同。而且，GSED 探測器克服了E‐T 探測器的缺點，可觀察發光、加熱的樣品。
6、特殊的樣品倉設計284mm 大型樣品倉，整體鑄造而成，在5軸馬達全自動驅動，給用戶雙重保證。在手動操作時, xT‐電鏡控制軟件也監控樣品臺的運行, 保證樣品上座標的性。樣品位置和觀察條件記憶功能允許用戶將感興趣的區域的位置和電鏡條件記憶下來, 可隨時回復記憶的位置和觀察條件, 方便用戶的對比分析工作。
7、*的單窗口和四窗口操作界面
同時可以顯示二次電子像，背散射像，以及他們的混合像，還有紅外CCD 實時監控像。
這樣可以獲得的信息。控制區功能使用非常人性化, 控制功能易于接近。
8、特殊的紅外CCD 設計
紅外CCD 探頭設計，不僅可以實時監控樣品倉的內部情況，同時可以通過這個窗口控制樣品臺的移動，還可以利用這個床空拍攝低倍照片進行導航。
9、分析型末級光闌。
在一般的低真空掃描電子顯微鏡中，在低真空狀態下，能譜分析的空間分辨率和分析精度大大降低，基本喪失了能譜分析的實用性。在環境掃描電子顯微鏡中，FEI/飛利浦配置了分析型末級光闌，能夠保證在低真空狀態下的能譜分析的空間分辨率和分析精度。
10、數字化掃描技術
在Quattro掃描電鏡中, FEI/ 飛利浦采用了數字化的電子束掃描技術, 無論是通過Quanta xT‐控制軟件對電鏡進行操作, 還是外接的第三方分析設備, 都是基于網絡結構進行數字化掃描控制。例如, 如果用戶在Quanta 上安裝能譜儀系統, 能譜儀公司只要將其為Quanta 設計的能譜探頭安裝在Quattro樣品室上, 將其為Quattro 設計的能譜分析器通過Quattro提供的網絡集線器進行網絡連接, 能譜儀就可通過Quattro的數字化掃描器來控制電子束在樣品表面的掃描。
11、真空系統
采用FEI/飛利浦的離子泵、分子泵、機械泵真空系統, 無油污染, 抽速快。
12、微觀實驗室
Quattro環境掃描電鏡可安裝特殊的原位樣品臺，如熱臺，冷臺，和拉伸臺。從‐165 °C 到1400 °C 溫度范圍內，對多種樣品保持其原始狀態下進行動態原位分析。
