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A-52硅片電鍍實驗設備套裝
A-52硅片電鍍實驗設備套裝
日本進口yamamoto-ms山本鍍金A-52硅片電鍍實驗設備套裝
2至12英寸硅片電鍍設備。
使用特殊夾具可以進行半導體、MEMS 和微機械的精密電鍍。它具有在不斷過濾和溢出的同時從水族箱底部引起溫和對流的結構，槳式攪拌用于直接攪拌。
它不僅可以用于硅晶片，還可以用于由 SiC、玻璃、GaAs 和 InP 等材料制成的基板。
它也可以用作生產設施。
標準尺寸為2～12英寸，但根據標準設備，可以使用各種所需設備，例如形狀與客戶樣品相匹配的夾具，雙面電鍍夾具，陽極氧化/鍍鋁夾具等。
2至12英寸硅片電鍍設備。
使用特殊夾具可以進行半導體、MEMS 和微機械的精密電鍍。它具有在不斷過濾和溢出的同時從水族箱底部引起溫和對流的結構，槳式攪拌用于直接攪拌。
它不僅可以用于硅晶片，還可以用于由 SiC、玻璃、GaAs 和 InP 等材料制成的基板。
它也可以用作生產設施。
標準尺寸為2～12英寸，但根據標準設備，可以使用各種所需設備，例如形狀與客戶樣品相匹配的夾具，雙面電鍍夾具，陽極氧化/鍍鋁夾具等。
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