污水處理設備 污泥處理設備 水處理過濾器 軟化水設備/除鹽設備 純凈水設備 消毒設備|加藥設備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設備
鉑悅儀器（上海）有限公司
鉑悅儀器（上海）有限公司
產品描述：反射光譜干涉法是一種非接觸式、無損的、快速的光學薄膜厚度測量技術。
當一束光入射到薄膜表面時，薄膜上表面和下表面的反射光會發生干涉，干涉的發生與薄膜厚度及光學常數等有關，反射光譜薄膜測厚儀就是基于此原理來測量薄膜厚度。
反射光譜干涉法是一種非接觸式、無損的、快速的光學薄膜厚度測量技術。
測量范圍: 1 nm - 1 mm
波長范圍: 200 nm -8000 nm
光斑尺寸:2mum -3 um
產品特點：
a. 高的測量精度：0.01nm或0.01%
b. 準確度：1nm或0.2%
c. 穩定性：0.02nm或0.02%
d. 強大的軟件材料庫，包含500多種材料的光學常數
e. 通過Modbus TCP或OPC協議，與其他設備聯用
適用于實時在線測量，多層測量，非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等
大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且穩定的被測量。比如：氧化物，氮化物，光刻膠，高分子聚合物，半導體(硅，單晶硅，多晶硅)，半導體化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂層(碳化硅，類金剛石炭)，聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)
標準配置中包含：
1. 主機(光譜儀，光源，電線)
2. 反射光纖
3. 樣品臺及光纖適配器
4. TFCompanion軟件
5. 校準套裝
6. 測試樣品，200nm晶圓
多種型號可選，每個型號對應不同的測量范圍：
測量n和k值，其厚度范圍需在25納米和5微米之間
廣泛的應用于各種工業生產及工藝監控中：
半導體晶圓，薄膜太陽能電池，液晶平板，觸摸屛，光學鍍膜，聚合物薄膜等
半導體制造：· 光刻膠 · 氧化物 · 氮化物
光學鍍膜：· 硬涂層 · 抗反射涂層 · 濾波片
生物醫學：· 聚對二甲苯 · 生物膜厚度 · 硝化纖維
您感興趣的產品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
環保在線 設計制作，未經允許翻錄必究 .? ? ?
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
