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上海泉瑞水處理設備有限公司

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半導體清洗去離子水設備

參  考  價:面議
具體成交價以合同協議為準

產品型號QRCJ

品牌

廠商性質生產商

所在地上海市

更新時間:2022-05-23 12:14:53瀏覽次數:1097次

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半導體清洗去離子水設備主要應用于電池行業溶劑用水、化學分析、化工材料、產品清洗、物質的分離、濃縮、提純,廢物回收等場合,根據客戶的生產工藝的實際需求對于出水水質要求不同,一般電導率要求在20uS/cm至0.1uS/cm范圍內。我們公司可根據客戶對水質的具體要求,采用RO反滲透、離子交換,EDI等工藝的有機組合生產出相應的去離子水,綜合各方面的參數,達到性價比高、運行穩定的目的。

     上海泉瑞公司是一家集研發、生產、制造、銷售、服務于一體的一般納稅人生產型企業,*致力于反滲透純水處理設備、半導體清洗純水處理設備、全自動軟水器、超純水設備、純水處理設備、中水回用設備及生活污水設備,積累了豐富的設備生產、施工經驗,泉瑞公司提供項目策劃、咨詢服務、規劃設計、制造安裝、維修保養等*的服務。

    泉瑞QRCJ系列半導體清洗純水處理設備  半導體產品在生產工藝中,對水的純潔度要求非常高,一般要求15兆歐以上。針對高純度水質的要求純水處理設備達到相關行業標準的水質(15-18.2 MΩ.CM),泉瑞純水處理設備盡可能地減少各級的污染,延長設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量。在工藝上,泉瑞QRCJ系列半導體清洗純水處理設備取市政自來水為源水,通過預處理、RO反滲透、EDI電除鹽系統、核級交換混床系統等處理工藝的有機結合,末端用水水質可以使產水電阻值達到18.2 MΩ.CM。  
    半導體清洗純水處理設備典型工藝: 
    預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥18.2MΩ.CM)   預處理-一級反滲透-加藥設備(PH調節)-中間水箱-第二級反滲透(正電荷反滲膜)-純水箱-純水泵-EDI裝置-紫外線殺菌器-拋光混床-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥18.2MΩ.CM)  
    RO、 EDI、樹脂離子交換是當今制備純水的必選工藝設備。其中RO反滲透是當今一項*的膜分離技術,是依靠反滲透膜在壓力下使溶液中的溶劑與溶質進行分離的過程。可有效地去除水中的重金屬離子、鹽類、細菌等,去除率達到98%以上; EDI連續電除鹽設備ConRinuous ElecRro deionizaRion(電解式連續去離子)為模塊式設備,可根據需要任意組合,該系統不需要停設備再生,無需酸堿,因此廢水排放問題也得到解決,更符合環保要求。EDI裝置現已應用在半導體、電廠、電子、制藥、實驗室等領域制備高純水。MB核級拋光樹脂一般用于超純水處理系統末端,來保證系統出水水質能夠維持用水標準,一般出水水質都能達到18兆歐以上,以及對TOC、SIO2都有一定的控制能力。可將水的電阻值由16MΩ/cm提升至18.2MΩ/cm。 
  

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