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支架顯微鏡

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所在地北京市

更新時間:2022-08-22 15:38:48瀏覽次數:523次

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觀察對像 其他 光源類型 其他
目數 雙目
支架顯微鏡提供了優質光學系統和耐用可靠的操作機構,景深大,工作距離長,操作空間大。全新的設計展現解像度及真實彩色影像,滿足現代生物醫學,科研,現代電子工業在線檢測和其他科技工業領域等高精度方面的要求。三目頭部可以連接攝像系統,方便對圖像的保存,編輯和打印。

用途:

PXS6-VT支架顯微鏡提供了優質光學系統和耐用可靠的操作機構,景深大,工作距離長,操作空間大。全新的設計展現解像度及真實彩色影像,滿足現代生物醫學,科研,現代電子工業在線檢測和其他科技工業領域等高精度方面的要求。三目頭部可以連接攝像系統,方便對圖像的保存,編輯和打印。

 

支架顯微鏡主要技術參數:

1.觀察頭部:三目,傾角: 45º,瞳距調節范圍: 54-75mm

2.變倍比: 1:8.5

3.目鏡: WF10X/22mm可調目鏡

4.物鏡: 0.65x-5.5x

5.總放大倍數: 6.5x-55x(選配目鏡、物鏡總倍數可達220X)

6.工作距離: 115mm

7.立柱高度:380mm  

8.立柱直徑φ32mm

9.水平移動:235mm  

10.底座尺寸:230x230x40mm

 

選購件:

1.目鏡: 16X、20X

2.輔助物鏡: 0.5X、2X

3.外接光源: 環形燈,臺式可調鹵素燈,光纖冷光源(單支、雙支、環形)

4.工作臺 :二維移動平臺,數顯二維移動平臺

5.支架: 萬向支架,無光源支架

6.數碼攝像頭: 500萬相素、1000萬相素,610萬相素數碼CCD

7.CCD適配鏡: 0.5X、1X

8.單反相機適配鏡: CANON(EF) 、NIKON( AF)

9.測量軟件: 熔深測量軟件,二維測量軟件

暗場顯微鏡

暗場顯微鏡主要用于觀察結構和折射率變化有關的物體,如硅藻、放射蟲類、細

芯片檢查顯微鏡

LW400JT芯片檢查顯微鏡適用于對不透明物體的進行顯微觀察。配置大移

裂像顯微鏡

裂像顯微鏡適用于硅片、IC、LCD、TFT、PCB、MEMS激光加工、

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