EUV型200W高出力低壓水銀燈紫外線UV光清洗燈:
主要型號: EUV200WH-20，EUV200WS-19, EUV200WS-47, EUV200WH-47, EUV200WS-53……
技術參數：200W，1.4A,管徑18-20MM,口金徑22MM,UV特性254NM,壽命:5000H
主要功能：1.光洗凈.光表面改質, 2.光酸化水處理.促進酸化水處理, 3.分解難分解的有機污染物.殺菌
| SEN | 型號 | EUV200WH |
類型 | 低壓汞燈 | 額定功率 | 200（W） |
額定電壓 | 200（V） | 壽命 | 8000（h） |
日本SEN特殊光源原產 低壓汞燈 水銀燈 清洗燈 EUV200WH
品名 | 功率（W） | 發光長±5(mm) | 燈全長±5(mm) |
EUV200WH | 200 | 1426 | 423 |
L:不發出臭氧的石英管 H:普通石英管 S:合成石英管
其中 S 石英管184nm波長發射率是H 管的2倍。
200W以上需要強制冷卻裝置。
紫外線表面清洗
作者:SEN特殊光源株式會社 社長:Kikuchi Kiyoshi
１紫外線表面清洗
紫外線表面清洗是近年來新興的清洗方法。紫外線表面清洗法不同于原有清洗法，沒有廢水，廢氣，廢物產生。是高能環保型清洗殺菌方法。廣泛運用于LCD,PCB，點子，印刷，塑膠，玻璃，涂裝等領域。
紫外線清洗是是利用有機化合物的光敏氧化作用達到去除附著在材料表面的有機物質。經過光清洗后的材料表面可以達到原子級清潔度。
其主要原理為紫外線燈發出的185nm波長和254nm波長具有很高的能量，高于大多數有機物的結合能量。由于大多數碳氫化合物對185nm波長的紫外線具有較強的吸收能力，并且可以在吸收185nm波長后分解成離子，流離態原子，受激分子和中子等，這就是光敏作用?？諝庵械难醴肿釉谖樟?85nm波長的紫外光后，會產生臭氧和氧氣，臭氧對254nm波長具有很強的吸收性，臭氧有可以分解為氧原子和氧氣。氧原子具有的氧化性，可以將碳氫化合鍵切斷，生成水和二氧化碳等易揮發氣體，從被照射物表面飄逸出，*清除物體表面的污染物。這就是紫外線清洗的原理。
清洗法有干洗和濕洗兩種。干洗有UV臭氧清洗，等離子清洗，離子清洗等。濕洗有水洗，堿清洗，酸清洗，液體噴射清洗等。我們日常所熟悉的濕式清洗有可以清洗掉較大范圍污染的優點。但是也會有清洗不掉的污染。同時由于清洗的溶劑會在被清洗物表面殘留，因此對于高精密世界來說也是個污染。
與此相反UV紫外線清洗雖然不能清洗掉大范圍的污染，卻可以清洗到各個角落的就是光洗凈技術（以下簡稱UV臭氧清洗）。在納米技術世界里，我們雖然看不到有機性污染，但是有機污染在表面形成膜（軟接著層）如果在這層膜上印刷的話，就會出現鮮度惡化以及針孔等障礙。UV臭氧清洗可以去除的污染有有機化合物以及含有油脂的污染等。
2二次污染的注意
玻璃表面的有機性污染膜厚度在單分子層以下時是非常清潔的表面狀態。即便是在實驗室或這是無菌室里的大氣中也會有微量的揮發性有機化合物或者硫化合物，將洗凈玻璃放置于這種環境下也會被這些蒸汽污染。高度清洗過后的表面接觸角會在30分到1小時內恢復到20度。因此我們認為超高清潔玻璃不易長時間保存。
3可以將粒子極限清洗的清洗工藝
UV臭氧清洗和濕式清洗的結合
UV臭氧清洗是使有機性污染膜清洗到單分子層以下的高清洗技術，如下圖所示在完成清洗階段使用UV臭氧清洗技術。但是UV臭氧清洗對于粒子沒有效果。同時濕式清洗不能*清除有機性污染，會保留幾個分子層厚度的油膜。被這些油墨所吸收的粒子在沖洗過程中很難被全部清洗掉。UV臭氧清洗是完成階段的清洗，在生產過程中我們發現了如下圖所示UV臭氧清洗后使用例如溫水沖洗的清洗工藝。UV臭氧清洗如圖所示油膜基本上都可以清除。在此之后使用純水沖洗可以將沒有油膜保護的粒子很容易的沖洗掉，得到沒有粒子，沒有有機污染物的高清潔面。
這種技術方法不但在液晶顯示裝置的現場使用，在原版曝光和分光板的制造工程中也被大量使用。
紫外線UV光清洗技術的應用范圍: |
1.各種材料(ITO玻璃,光學玻璃,鉻板,掩膜版,拋光石英晶體,硅)晶片和帶有氧化膜的金屬等進行精密清洗處理; |
2.清除石臘,松香,油脂,人體體油以及殘余的光刻膠/聚酰亞胺和環氧樹脂 |
3.高精度PCB焊接前的清洗和去除殘余的焊劑以及敷銅箔層壓板的表面清潔和氧化層生成； |
4.超高真空密封技術和熱壓焊接前的表面清潔處理以及各種微型元件的清洗 |
5。在LCD、OLED, Touch Panel科研/生產中，在涂光刻膠、PI膠、定向膜、鉻膜、色膜前經過光清洗，可以極大的提高基體表面潤濕性，增強基體表面的粘合力； |
6。印制電路板生產中，對銅底板，印刷底板進行光清洗和改質，在導線焊接前進行光清洗，可以提高熔焊的接觸面積，大大增加連接強度。特別是高精度印制電路板，當線距達到亞微米級時，光清洗可輕易地去除在線距之間很小的微粒，可以大大提高印制電路板的質量。 |
7。大規模集成電路的密度越來越高，晶格的微細化越來越密，要求表面的潔凈度越來越高，光清洗可以有效地實現表面的原子清潔度，而且對芯片表面不會造成損傷。 |
8。在半導體生產中，硅晶片涂保護膜、鋁蒸發膜前進行光清洗，可以提高粘合力，防止針孔、裂縫的發生 |
9。在光盤的生產中，沉積各種膜前作光清洗準備，可以提高光盤的質量。 |
10。磁頭固定面的粘合，磁頭涂敷，以及提高金屬絲的連接強度，光清洗后效果更好。 |
11。石英晶體振蕩器生產中，除去晶體檢測后涂層上的墨跡，晶體在銀蒸發沉積前，進行光清洗可以提高鍍膜質量和產品性能。 |
12。在IC卡表面插裝ROM前，經過光清洗可提高產品質量。 |
13。彩色濾光片生產中，光清洗后能*洗凈表面的有機污染物。 |
14。敷銅箔層壓板生產中，經過光照改質，不僅表面潔凈而且表面形成十分均勻的保護氧化層，產品質量顯著提高 |
15。光學玻璃經過紫外光清洗后，鍍膜質量更好。 |
16。樹脂透鏡光照后，能加強與防反射板的粘貼性。 |
典型應用包括： |
·表面的原子級清洗 |
·聚合物粘接 |
·去除有機分子 |
·釋放捕獲的無機分子 |
·微流控制作 |
·微米/納米構型 |
·紫外光固化 |
·表面化學改性 |
·表面殺菌 |
·表面氧化 |
·金屬粘結準備…… |
.光酸化水處理,促進酸化水處理 |
.光重合反應 |
SEN UV光清洗, 短短幾十秒, 表面超潔凈 ! |
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