PSDP-UVT 內(nèi)置加熱盤系列：

PSDP-UVT 新增加一個加熱盤，將PSDP-UV的能力提升到了新的水平，使其能的分解有機分子物質(zhì)。帶PID反饋回路的數(shù)字控制器能精準保持熱盤的溫度，溫度范圍可達150攝氏度。

選項：OES-1000D臭氧消除系統(tǒng) （內(nèi)置真空泵和催化型臭氧中和器，用于清洗完成后的臭氧消除）

? 數(shù)字控制加熱盤可以設(shè)置高達150攝氏度
? 可調(diào)節(jié)托盤高度
? 安全開關(guān)防止使用者被紫外光照射
? 可編程數(shù)字控制器
? 數(shù)字顯示倒計時
? 可執(zhí)行暫停和終止指令
? 內(nèi)部存儲器用于記錄之前的參數(shù)設(shè)置
? 高利用率和高靈活性
? 室溫操作,使用空氣或是氧氣

一般特性：

電 源：100.120.220.240VAC.50-60周期。

樣品高度：所有系統(tǒng)都配置可調(diào)節(jié)高度的樣品臺，調(diào)節(jié)燈與樣品之間的間距，并帶位置鎖定，標準樣品臺尺寸為UV格柵燈大小或更大。

UV格柵燈：產(chǎn)生臭氧的低壓汞格柵燈，帶反射罩。燈管壽命大約為5000小時。

UV反射罩：UV反射罩一般比UV格柵燈大一英寸。比如4×4英寸燈管反射罩尺寸是5×5英寸。

樣品放置：打開清洗腔上蓋，露出樣品臺，允許360度裝入樣品。

安全裝置：當清洗腔打開時，系統(tǒng)安全鎖會關(guān)掉UV燈。

進出氣口：標準配置2個氣接口，可選更多。

真空反應(yīng)腔：選項客戶化定制，鋁或石英材料。

溫度范圍：高達150攝氏度。

臭氧中和器：中和器和泵用于臭氧排除。（PSD和PSDP選項）

工作原理 ：

PSDP-UVT系列產(chǎn)品通過產(chǎn)生185nm和254nm高強度UV光分解有機分子（污染物）。185nm的光可以將氧分子O2轉(zhuǎn)變成活性的O3臭氧分子。254nm的光同時激發(fā)表面的有機分子，使其更容易被臭氧分子吸收并分解。由于臭氧分子存在時間短并且同時也被254nm光分解，樣品臺可以調(diào)節(jié)樣品到燈管的距離來優(yōu)化性能。PSD和PSDP分解有機污染物，然后形成CO2和H2O蒸氣，同時也將臭氧分子轉(zhuǎn)變成氧分子。


典型應(yīng)用包括：

?表面的原子級清洗
?聚合物粘接
?去除有機分子
?釋放捕獲的無機分子
?微流控制作
?微米/納米構(gòu)型
?紫外光固化
?表面化學(xué)改性
?表面殺菌
?表面氧化
?金屬粘結(jié)準備……

型號及尺寸：