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在IC芯片制造領域中，等離子清洗機 去除晶元光刻膠設備已是一種不可替代的成熟工藝，不論在芯片源離子的注入，還是晶元的鍍膜，亦或是我們的低溫等離子體表面處理設備所能達到的：在晶元表面去除氧化膜、有機物、去掩膜等超凈化處理及表面活化提高晶元表面浸潤性。

等離子清洗機在半導體行業(yè)廣泛應用，可有效去除表面污染物和顆粒，有利于提高導線鍵的強度，減少芯片分層的發(fā)生，提高芯片本身的質量和使用壽命，提高包裝產品的可靠性。

等離子清洗機廣泛用于1、等離子表面活化/清洗2、等離子處理后粘合3、等離子蝕刻/活化4、等離子去膠;5、等離子涂鍍(親水,疏水)6、增強邦定性7、等離子涂覆8、等離子灰化和表面改性等場合通過等離子清洗機的處理，能夠改善材料表面的浸潤能力，使多種材料能夠進行涂覆、鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時去除有機污染物、油污或油脂

等離子清洗機 去除晶元光刻膠設備廣泛應用于刻蝕、脫膠、涂層、灰度、等離子體表面處理。通過等離子清洗機的表面處理，可以提高材料表面的潤濕性，從而提高材料的涂層等性能，增強材料的附著力、粘結力和去除有機污染物。現(xiàn)在市場上出現(xiàn)的超聲波清洗機也并不能達到改性的效果，只能清洗一些表面的可見物，因為種種在制程中的不良，從而衍生了等離子清洗機之類的高特技產品。也越來越多的工業(yè)使用等離子清洗機，通過等離子清洗機可以達到表面改性、清洗、提升產品性能等作用，大大的減少了產品在制程中所造成的不良率，從而提高產品品質、降低生產成本等等。

等離子清洗機，表面處理活化，刻蝕涂層設備可以增加表面張力，精細清潔，去除靜電，活化表面等功能，廣泛應用于玻璃、金屬、線纜、橡膠、塑料、糊盒、糊箱、橡膠表面改性處理。

等離子清洗設備去除灰塵和油污、去靜電；.提高表面浸潤功能，形成活化表面；提高表面附著能力、提高表面粘接的可靠性和持久性；