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等離子清洗機用于處理ITO,FTO,光學玻璃,半導體,硅片,金屬,陶瓷,聚合物等基片表面的有機物,可以提高基片表面附著力或者改善表面親水性,在襯底涂層或者鍍膜,基片鍵合等方面有廣泛應用。
等離子清洗機的特點是不分處理對象的基材類型,均可進行處理,金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料(如:聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環氧、甚至聚四氟乙烯等,是沒有極性的,這些材料在印刷、粘合、涂覆前要進行處理)等原基材料都能很好地處理,并可實現整體和局部以及復雜結構的清洗。
等離子清洗機(plasma cleaner)也叫等離子清潔機,或者等離子表面處理儀,是一種全新的高科技技術,利用等離子體來達到常規清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質的一種狀態,也叫做物質的第四態,并不屬于常見的固液氣三態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的“活性"組分包括:離子、電子、原子、活性基團、激發態的核素(亞穩態)、光子等。等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面,從而實現清潔、涂覆等目的。
等離子清洗機可以改善聚合材料、橡膠、金屬、玻璃、陶瓷等的親水性能,改變難粘材料的分子,使其在不損傷表面的情況下具有更好的粘附性能。等離子清洗機適用于三維塑料制品、薄膜、橡膠型材、涂層紙板以及泡沫、固體材料等較厚的材料片。