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等離子清洗機機產生的等離子體是一種高能、高活性的物質,對任何有)材料等都有很好的蝕刻效果,而且等離子清洗機是干法處理設備不會造成污染,所以近年來等離子清洗機已經被大量應用于半導體產品的制作。
1. 多層柔性板除膠渣、軟硬結合板除膠渣、FR-4高厚徑比微孔、高TG板材除膠渣(Desmear);等離子清洗機提高孔壁與鍍銅層結合力,除膠渣*,提高通斷可靠性,防止內層鍍銅后開路。
2. PTFE(鐵氟龍)高頻板沉銅前孔壁的表面活化(Modification):提等離子清洗機提高了高孔壁與鍍銅的結合力,杜絕出現黑孔,高溫焊接后爆孔等現象。阻焊與字符前活化:有效防止阻焊字符脫落
3. HDI板laser通孔、盲/埋孔去除激光(Laser)灼燒碳化物。不受孔徑大小要求,孔徑小于50微米微孔(效)果更顯著(Micro hole,IVH,BVH).
4. 精細線條制作時去除干膜殘余物(去除夾膜)
5. 軟硬結合板疊層壓合前PI表面粗化,柔性板補強前PI表面粗化:拉力值可增大10倍以上。
6. 化學沉金/電鍍前手指、焊盤表面清潔:去除阻焊油墨等異物,提高密著性和附著性,一些較大型柔性板廠已經用等離子清洗機取代傳統磨板機(沉金鍍金前磨板被等離子清洗取代)。
7. 化學沉金/電鍍金后,SMT前焊盤表面清潔(cleaning);可焊性改良,杜絕虛焊、上錫不良,提高強度和信賴性。
8. PCB板BGA封裝前表面清洗,打金線WIRE DieBonding前處理,EMC封裝前處理:提高布線/連線強度和信賴性(去除阻焊油墨等殘余物)
9. LCD領域:模組板去除金手指氧化和壓合保護膜過程中溢膠等污染物,偏光片貼合前表面清潔。
10. IC半導體領域:半導體拋光晶片(Wafer):去除氧化膜,有機物;
COB/COG/COF/ACF等工藝中微觀污染物清潔,提高密著性和可靠性。
11.LED領域:打線Wire前焊盤表面清潔,去除有機物。
等離子處理機清洗工藝屬于干法工藝,與濕法工藝相比具有許多優點,這些優點是由等離子體自身的特點決定的。等離子處理機電離出來的整體顯電中性等離子體具有高度的活性,能與材料表面的原子發生連續的反應,使表面物質不斷被激發成氣體,揮發出來,以達到清潔的目的。等離子清洗機在半導體產品生產過程中有很好的實用性,是清潔、環保的、高效的清洗方法。