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等離子清洗機應用于半導體晶圓清洗

2021-5-19  閱讀(1484)

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等離子清洗機所產生的等離子體,不僅具有清除有機物和無機物的清潔特性,而且等離子清洗機賦予了材料表面新的實用性能,如抗靜電性、親水性、染色性(高分子材料)耐磨、耐腐蝕性(金屬材料);清洗、刻蝕、去膠等(半導體材料);吸光性

等離子體清洗機作為一種的干式清洗技術,具有色環綠保等特點,隨著微電子行業的迅速發展,等離子清洗機也在半導體行業的應用越來越多。

 

等離子體清洗機在處理晶圓表面光刻膠時,等離子表面清洗能夠去除表面光刻膠和其余有機物,也可以通過等離子活化和粗化作用,對晶圓表面進行處理,能有效提高其表面浸潤性。相比于傳統的濕式化學方法,等離子體清洗機干式處理的可控性更強,一致性更好,并且對基體沒有損害。

 

 

 

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