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目前的ITO玻璃清潔工藝中用各種清洗劑(酒精清洗、棉簽+檸檬水清洗、超聲波清洗)進行清洗,但由于清洗劑的引入會導致因清洗劑的引入而帶來其他的相關(guān)問題,而等離子清洗機對ITO玻璃進行表面清潔是比較有效的清潔方法。
等離子體是由帶正、負電荷的離子和電子也可能還有一些中性的原子和分子所組成的集合體,在宏觀上一般呈電中性。等離子體可以是固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)。電離氣體就是一種氣態(tài)等離子體。等離子體中的基本過程是在電場和磁場的作用下各種帶電粒子間相互作用引起多種效應(yīng)。
等離子清洗機對液晶玻璃進行清潔處理使用的活化氣體是氧等離子體,等離子清洗機能除去油性污垢和有機污染物粒子,因為氧等離子體可將有機物氧化并形成氣體排出。增強偏光板粘貼的成品率并且電極與導電膜間的粘附性也大大改善,從而改善了產(chǎn)品的質(zhì)量及其穩(wěn)定性。
等離子清洗機實際是高精度的干法清洗設(shè)備,等離子處理設(shè)備的清洗范圍為納米級別的有機和無機污染物。在等離子清洗機的處理應(yīng)用中主要是利用低壓氣體輝光等離子體。一些非聚合性無機氣體( Ar、N2、H2、O2等)在高頻低壓下被激發(fā),產(chǎn)生含有離子、激發(fā)態(tài)分子,自由基等多種活性粒子。
等離子清洗機處理可把活化氣體分為兩類:一類為惰性氣體的等離子體(如Ar、N2等);另一類為反應(yīng)性氣體的等離子體(如O2、H2等)。這些活性粒子能與表面材料發(fā)生反應(yīng),激發(fā)態(tài)分子清洗活化表面。等離子產(chǎn)生的原理如下:給一組電極施加射頻電壓(頻率約為幾十兆赫茲) ,電極之間形成高頻交變電場區(qū)域內(nèi)氣體在交變電場的激蕩下,產(chǎn)生等離子體。活性等離子對被清洗物進行表面物理轟擊與化學反應(yīng)雙重作用使被清洗物表面物質(zhì)變成粒子和氣態(tài)物質(zhì)經(jīng)過抽真空排出而達到清洗目的。LCD工藝水平飛速發(fā)展,LCD制造技術(shù)極限不斷受到挑戰(zhàn)并發(fā)展已成為代表制造技術(shù)的前沿技術(shù)。在清洗行業(yè)對清洗的要求也越來越高,常規(guī)清洗已經(jīng)不能滿足要求,等離子體清洗機比較理想地解決了這些精密清洗的要求又符合當今環(huán)保的形勢。