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等離子清洗機(jī)附屬功能之一：等離子刻蝕。主要以化學(xué)反應(yīng)為主，物理反應(yīng)為輔，減法。
等離子刻蝕（等離子蝕刻）化學(xué)反應(yīng)為主，由物理轟擊來(lái)達(dá)到各向異性及增加刻蝕速度；加上物理轟擊后，比純化學(xué)刻蝕要快；對(duì)應(yīng)的專(zhuān)業(yè)設(shè)備是等離子刻蝕機(jī)，放電模式主流是ICP，等離子體濃度更高。常規(guī)的等離子清洗機(jī)講到的刻蝕，往往是借助一些腐蝕性的氣體，把材料表面變得更加粗糙而已。典型應(yīng)用：半導(dǎo)體行業(yè)的晶圓刻蝕等。
等離子清洗機(jī)作為干法清洗可控性強(qiáng)，一致性好，不僅*去除光刻膠有機(jī)物，而且還活化和粗化晶圓表面，提高晶圓表面浸潤(rùn)性
晶圓清潔 - 等離子清洗機(jī)用于在晶圓凸點(diǎn)工藝前去除污染，還可以去除有機(jī)污染、去除氟和其它鹵素污染、去除金屬和金屬氧化。
晶圓刻蝕 - 等離子清洗機(jī)預(yù)處理晶圓的殘留光刻膠和BCB，重新分配圖形介電層，線(xiàn)條/光刻膠刻蝕，應(yīng)用于晶圓材料的附著力增強(qiáng)，去除多余的塑封材料/環(huán)氧樹(shù)脂，增強(qiáng)金焊料凸點(diǎn)的附著力，晶圓減壓減少破碎，提高旋涂膜附著力，清潔鋁焊盤(pán)。
