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等離子清洗機在晶圓清洗上的應用

2021-2-9  閱讀(1034)

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等離子清洗機能夠處理多個晶片尺寸、高容量、自動化處理。離子清洗機具有工藝簡單、操作方便、無廢物處理和環境污染等優點。等離子清洗機常用于光刻膠去除過程。少量氧氣被引入等離子體反應系統。在強電場的作用下,氧氣產生等離子體,將光刻膠迅速氧化成揮發性氣體,被抽走。等離子清洗機具有操作方便、效率高、表面清潔、無劃痕等優點,有利于保證產品質量。而且不使用酸、堿、有機溶劑。

等離子表面處理設備的作用根據工藝的不同,主要包括污染物的去除,氧化層還原,表面性能活化等,增強材料表面的打線,粘接,印刷,鍍膜工藝能力,有利于下一道工藝的進行。

晶圓等離子清洗機用于晶圓處理。是晶圓級和3D封裝應用的理想設備。等離子清洗機的應用包括預處理、灰化/光刻膠/聚合物剝離、介電質刻蝕、晶圓凸點、有機污染去除、晶圓減壓等。

晶圓等離子處理機是用于典型的后道封裝前的晶圓加工的理想設備,也同時適用于晶圓級封裝、3D封裝、倒裝,以及傳統封裝。腔體設計和控制結構可以實現更短的等離子循環時間和更低的成本,以及較大產量和較為經濟的使用成本。

等離子清洗機的應用包括各種各樣的刻蝕、灰化、和減壓步驟。等離子清洗機的其它的工藝包括污染去除、表面粗糙化、增加潤濕性,以及提高焊接和粘接強度。

等離子清洗機用于在晶圓凸點工藝前去除污染,還可以去除有機污染、去除氟和其它鹵素污染、去除金屬和金屬氧化。等離子清洗機也可以改善旋涂膜粘接和清潔金屬焊盤。

晶圓刻蝕 - 等離子系統預處理晶圓的殘留光刻膠和BCB,重新分配圖形介電層,線條/光刻膠刻蝕,應用于晶圓材料的附著力增強,去除多余的塑封材料/環氧樹脂,增強金焊料凸點的附著力,晶圓減壓減少破碎,提高旋涂膜附著力,清潔鋁焊盤。

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