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等離子處理機清洗晶圓光刻膠

2020-10-26  閱讀(2022)

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等離子清洗機作為一種的干式清洗技術,具有綠色環保等特點,等離子清洗機用于在晶圓凸點工藝前去除污染,還可以去除有機污染、去除氟和其它鹵素污染、去除金屬和金屬氧化。

等離子清洗機Plasma Cleaner又被稱為等離子蝕刻機、等離子去膠機等離子活化機Plasma清洗機等離子表面處理機、等離子清洗系統等。等離子處理機廣泛應用于等離子清洗、等離子刻蝕、等離子晶圓去膠、等離子涂覆、等離子灰化、等離子活化和等離子表面處理等場合,通過等離子清洗機的表面處理,能夠改善材料表面的潤濕能力,使多種材料能夠進行涂覆、涂鍍等操作,增強粘合力、鍵合力,同時去除有機污染物、油污或油脂.

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等離子表面清洗機能夠去除晶圓表面光刻膠和其余有機物,也可以通過等離子清洗機的活化和粗化作用,對晶圓表面進行處理,能有效提高其表面浸潤性。等離子清洗機在半導體晶圓清洗工藝上的應用具有工藝簡單、操作方便、沒有廢料處理和環境污染等問題。

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等離子清洗機常用于光刻膠的去除工藝中,在等離子體反應系統中通入少量的氧氣,在強電場作用下,使氧氣產生等離子體,迅速使光刻膠氧化成為可揮發性氣體狀態物質被抽走。等離子清洗機在去膠工藝中具有操作方便、效率高、表面干凈、無劃傷、有利于確保產品的質量等優點,而且它不用酸、堿及有機溶劑等,因此越來越受到人們重視。








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