plasma真空等離子清洗機供應商：誠峰智造

真空式等離子處理系統CRF-VPO-MC-6L

名稱（Name）

真空式等離子處理系統

型號（Model）

CRF-VPO-MC-6L

控制系統（Control system）

PLC+觸摸屏

電源（Power supply）

380V/AC,50/60Hz,12.5kw

中頻電源功率（MF Power）

2000W/40kHz

容量（Volume）

235L（Option）

層數（Electrode of plies）

6（Option）

有效處理面積（Area）

500（L）*500（W）（Option）

氣體通道（Gas）

兩路工作氣體可選： Ar、N2、CF4、O2

產品特點：處理空間大，提升處理產能，采用PLC+觸摸屏控制系統，有效控制設備運行。

可按照客戶要求定制設備腔體容量和層數，滿足客戶的需求。

保養維修成本低，便于客戶成本控制。

高精度，快響應，良好的操控性和兼容性，完善的功能和專業的支持。

應用范圍：主要適用于生物醫療行業，印制線路板行業，半導體IC領域，硅膠、塑膠、聚合體領域，汽車電子行業，工業等。