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詳細介紹
YWL-2500半導體氣體分析系統基于領xian的半導體激光吸收光譜技術（DLAS），即“單線光譜”測量技術。具體來說，就是通過測量具有某一特定吸收譜線的激光束在穿過被測氣體時發生的衰減信息，并根據激光強度衰減與被測氣體含量間的正比關系，分析獲得被測氣體的濃度。
與非分光紅外氣體分析技術相同,DLAS技術也是一種吸收光譜技術，它利用Beer-Lambert關系來定量分析半導體激光能量被被測氣體選擇吸收產生的衰減來獲得氣體的濃度。與傳統非分光紅外分析技術使用譜寬很寬且固定波長的紅外光源不同，DLAS技術使用譜寬非常小(也就是單色性非常好) 且波長可調諧的半導體激光器作為光源。
YWL-2500半導體氣體分析系統技術指標
| 類別 | 參數 | 指標 |
技術指標 | 量 程 | HCL：0-1000ppm |
響應時間 | ≤1s | |
光通道長度 | ≤15m | |
線性誤差 | ≤±1%量程/六個月 | |
量程漂移 | ≤±1%量程/六個月 | |
維護周期 | <2次/年,清潔光學視窗（無消耗品需要） | |
標定周期 | 六個月 | |
防護等級 | 發射單元/接收單元：IP65 | |
防爆等級 | ExpxmdⅡCT5（選配） | |
輸出信號 | 模擬量輸出 | 2路4－20mA電流（隔離、zui大負載750Ω） |
模擬量輸入 | 2路4－20mA電流（溫度、壓力補償） | |
通訊接口 | RS485 | |
繼電器輸出 | 3路輸出（繼電器規格：24V，1A） | |
工作條件 | 電源 | 24V DC（18-36VDC，>20W） |
吹掃氣體 | 0.4－0.8MPa工業氮氣或凈化儀表氣等 氮氣純度>99.99% | |
環境溫度 | -30～-60℃ | |
安裝 | 安裝方式 | DN50/PN2.5 法蘭原位安裝
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