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等離子體增強化學氣相沉積系統CVD

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更新時間:2023-03-06 18:40:52瀏覽次數:260次

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產品簡介

多功能電感耦合等離子體增強化學氣相沉積系統(CVD)是用來制備高純、高性能固體薄膜的主要技術,主要借助微波或射頻的方法將目標氣體進行電離,促進化學反應在較低的溫度下進行,從而在基片上沉積出所期望的薄膜

詳細介紹

多功能電感耦合等離子體增強化學氣相沉積系統(CVD)是用來制備高純、高性能固體薄膜的主要技術,

主要借助微波或射頻的方法將目標氣體進行電離,促進化學反應在較低的溫度下進行,從而在基片上沉積

出所期望的薄膜。

目前項目團隊自主研發的CVD設備可在多種襯底上(如金屬、氧化物、半導體表面)直接生長以石墨烯為

代表的各類新型二維材料,用于新材料、新器件的研發。工藝簡單廉價,且具有傳統半導體生長工藝的兼

容性。

應用案例

以上就是為您介紹的等離子體增強化學氣相沉積系統CVD產品,如果想要了解

更多產品信息請咨詢(微信同號)

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