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柜谷科技發(fā)展（上海）有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： Brookfield質(zhì)構(gòu)儀,HAAKE擠出機(jī),日立掃描電鏡 |
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| 參考價(jià) | 面議 |
- 型號(hào) IM4000
- 品牌 其他品牌
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 所在地 上海市
聯(lián)系方式：錢總查看聯(lián)系方式
更新時(shí)間：2021-04-06 10:06:14瀏覽次數(shù)：467
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日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器！
日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式帶有兩種研磨配置：
斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面以下結(jié)構(gòu)高分辨成像。
平面研磨：將樣品表面均勻研磨5平方毫米，從不同角度有選擇地研磨，以便突出樣品的表面特性。
HITACHI Ion Milling System IM4000 的高通量能提高加工效率：與之前的E-3500型相比，采用新型離子槍設(shè)計(jì)，減少了橫截面研磨時(shí)間。（zui大加工率：硅元素為300微米/小時(shí)--加工時(shí)間減少了66%。
HITACHI Ion Milling System IM4000 的可拆卸樣品臺(tái)裝置：為便于樣品設(shè)置和定義研磨邊緣，可將樣品臺(tái)裝置拆卸。
特點(diǎn)
混合模式：兩種研磨配置
斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面高分辨觀察
平面研磨：不同角度有選擇地，大面積，均勻地研磨5 mm的平面，以突顯樣品的表面特性
高效：提高加工效率，與之前的E-3500型相比，采用新型離子槍設(shè)計(jì)，減少了橫截面研磨時(shí)間(zui大加工速度：硅材質(zhì)為300 μm/h - 加工時(shí)間減少了66%)
可拆卸式樣品臺(tái)：為便于樣品設(shè)置和邊緣研磨，樣品臺(tái)設(shè)計(jì)為可拆卸型
規(guī)格
| 項(xiàng)目 | 描述 | |
| 斷面加工臺(tái) | 平面研磨臺(tái) | |
| 氣源 | 氬氣(Ar) | |
| 加速電壓 | 0-6Kv | |
| zui大研磨速率﹡¹﹡²（硅材質(zhì)） | 約300μm/h﹡¹﹡² | 約20μm/h﹡³（點(diǎn)） 約2μm/h﹡?（面） |
| zui大樣品尺寸 | 20（W）×12(D)×7(H)mm | Φ50×25(H)mm |
| 樣品移動(dòng)范圍 | X±7mm,Y0－＋3mm | X0－＋5mm |
| 旋轉(zhuǎn)角度 | - | 1r/m，25r/m |
| 擺動(dòng)角度 | ±15°，±30°，±40° | ±60°，±90° |
| 傾斜 | - | 0-90° |
| 氣體流量控制系統(tǒng) | 流量調(diào)節(jié)器 | |
| 排氣系統(tǒng) | 渦輪分子泵(33L/S)+機(jī)械泵(50Hz時(shí)，135L/min,60Hz時(shí)，162L/min) | |
| 儀器外觀尺寸 | 616（W）×705(D)×312(H)mm | |
| 儀器重量 | 主機(jī)48kg+機(jī)械泵28Kg | |
| 可選附件 | 光學(xué)顯微鏡（用于觀測(cè)研磨中的樣品） | |
﹡¹：此研磨速率是對(duì)研磨板邊緣處的硅材質(zhì)的材料研磨至100μm粒度時(shí)所獲得的zui大深度值 ﹡²：此研磨速率是對(duì)硅材質(zhì)的材料進(jìn)行研磨兩小時(shí)后獲得的平均值 ﹡³：照射角度60°偏心值4mm ﹡?:照射角度0°偏心值0mm | ||
