2021年11月19日，在美麗的杭州蕭山，集成電路材料產業技術創新聯盟(以下簡稱“材料聯盟”)與杭州科百特過濾器材有限公司(以下簡稱“科百特”)聯合成功舉辦了集成電路超凈工藝技術Workshop，科百特微電子事業部總監羅進文主持了本次會議。
隨著半導體工藝節點不斷演進，晶圓表面的潔凈要求也越來越嚴苛。晶圓表面微污染雜質是影響芯片良率和芯片產品性能的關鍵因素。為應對高階工藝對微污染控制提出的新挑戰和新需求，此次技術研討會邀請到了60余位半導體制造、硅材料、光刻膠、高純濕化學和拋光材料等相關行業的技術專家參會，共同探討新技術要求下的潔凈控制。
9點會議正式開始，杭州市蕭山區政府倪世英、集成電路材料產業技術創新聯盟石瑛秘書長、科百特CEO Kevin、上海集成電路研究院董事長俞文杰為大會做了精彩的致辭。
杭州市蕭山區政府倪世英 致辭
集成電路材料產業技術創新聯盟石瑛秘書長 致辭
科百特CEO Kevin 致辭
科百特CEO Kevin介紹了科百特專注在膜技術的發展，從微孔膜發展到現在的1nm的納米膜，主要應用于兩大產業——生物制藥和集成電路，生物制藥主要用于除菌過濾，蛋白和病毒的濃縮和分離；在集成電路領域，可用于光刻、清洗、刻蝕和拋光等200多個工藝點的微污染過濾和純化，最小精度已經做到1nm。科百特在納米過濾純化膜的研發道路上，離不開廣大客戶的鼎力支持。特別感謝國家、蕭山區各級政府的大力支持，讓我們可以更高效的為集成電路產業客戶提供強有力的供應保障。
此次會議特別邀請了武漢新芯集成電路制造有限公司運營官孫鵬、上海華力集成電路制造有限公司*模塊濕法研發專家李芳科長、安集微電子科技(上海)股份有限公司應用總監王勝利和杭州科百特過濾器材有限公司CTO山田善章(Yamada Yoshiaki)做了精彩報告。
上海華力集成電路制造有限公司*模塊濕法研發專家李芳科長線上做了《*工藝清洗技術發展及其對相關材料的需求》的報告，從清洗工藝的發展和挑戰給材料廠家提供了方向和建議。隨著晶體管結構逐漸過渡到立體的鰭式結構、應力效應鍺化硅的導入、高深寬比深槽結構的增加等一系列挑戰，單片清洗設備對SC1清洗劑和IPA的用量急劇增加。
武漢新芯集成電路制造有限公司運營官孫鵬在《高純化學品微污染控制》的報告中，介紹了當前半導體市場的發展趨勢及新的應用領域對新興細分化領域芯片的強勁增長需求：5G通信、物聯網、汽車微控制器及非易失性閃存芯片產品。這些新的芯片除了對常規運算/存儲性能以外，對基于安全的耐久性及功耗也有了超前的要求。孫總在報告中還分享了濕制程的相關案例，提出Fab對高品質化學品穩定供應的要求。
安集微電子科技(上海)股份有限公司應用總監王勝利做了《*制程刻蝕后清洗技術》的報告，分享了后段干法蝕刻后的高選擇比清洗、氮化鈦掩膜的濕法回刻、3D NAND存儲器的高選擇比磷酸蝕刻、1Z DRAM的氧化鋯等High K薄膜蝕刻等一些關鍵技術難點工藝。
杭州科百特過濾器材有限公司日本支社社長兼技術官山田善章在《半導體制造工藝整體潔凈解決方案》的報告中從制程、制造工序、供應鏈方面介紹了半導體工藝制程中的超凈需求，詳細介紹了半導體化學品(堿性溶液、極性有機溶劑、光刻化學品)除金雜的解決方案，1nm高階光刻過濾產品以及超純200L包裝桶，介紹了過濾、純化、潔凈包裝的解決方案。
11月19日下午，材料聯盟同本次參會的技術專家分別參觀了科百特半導體濾芯百級潔凈車間、7000平技術驗證中心、200L超凈包裝桶和高純化學品內襯設備制造車間，大家感嘆科百特高速發展和通過技術攻克解決進口依賴表示高度贊賞，對科百特半導體的戰略發展給予積極的評價。
寧波南大光電材料有限公司總經理許從應博士主持了參觀后的技術分享會，參會嘉賓共同探討了半導體*制造工藝微污染控制面臨的挑戰，工藝化學品和光刻膠技術專家們分享了材料的現狀和急需要攻克的難題，其中TMAH的純化與高純化學品的包裝容器備受關注。
