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武漢賽斯特精密儀器有限公司


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真空多功能磁控濺射系統(tǒng)設備

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具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號

品       牌其他品牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地武漢市

聯(lián)系方式:左斌斌查看聯(lián)系方式

更新時間:2021-04-28 15:16:30瀏覽次數(shù):434次

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經(jīng)營模式:生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品:1668條

所在地區(qū):湖北武漢市

聯(lián)系人:左斌斌 (銷售經(jīng)理)

產(chǎn)品簡介
加工定制    

真空多功能磁控濺射系統(tǒng)設備 低真空泵組:機械泵+羅茨泵機組低真空泵組:武漢賽斯特精密儀器有限公司是武漢市專業(yè)研發(fā),以力學試驗機儀器為主

詳細介紹

真空多功能磁控濺射系統(tǒng)設備

是針對特定市場和客戶群體開發(fā)的新產(chǎn)品,與目前市場上普遍采用的鍍膜設備相比具備以下突出優(yōu)勢:單體同步精密監(jiān)控,實時膜厚分布控制。因此適合做各類高難度鍍膜產(chǎn)品。單片薄膜產(chǎn)品的面積越大,優(yōu)勢越明顯。而電子束鍍膜機還增加了雙面鍍膜功能,適合半導體激光器的端面鍍膜。

特點:

1、支持向上或向下的鍍膜方式;

2、*的濺射靶材結(jié)構(gòu)設計,實現(xiàn)膜厚分部的穩(wěn)定可靠;

3、高速旋轉(zhuǎn)的傘具與實際鍍膜工件的監(jiān)控位置,實現(xiàn)了所見即所得;

4、多通道透射式監(jiān)控,配合可調(diào)節(jié)膜厚修正板,實現(xiàn)了膜厚分布的反饋控制;

5、支持任意膜厚的控制;

6、通用的控制平臺,友好的人機界面,使客戶可以自行設置鍍膜機的所有控制參數(shù);

7、開放式接口,方便安裝第三方的光學膜厚儀;

8、氣流和氣壓同時實時控制,適用出氣量大的低溫鍍膜。

真空多功能磁控濺射系統(tǒng)設備

工藝參數(shù):

1、真空系統(tǒng)

     a) 極限真空度:4.0×10-5Pa 

     b) 抽至10Pa所用時間:≦ 10 分鐘

     c) 漏率: 3.0×10-5Pa m3/sec

2、控制精度

     a) 靶材尺寸:8寸直徑

     b) 工件旋速: 20-120RPM

     c) 工件尺寸:直徑900mm

     d) 離子源:等離子體離子源

     e) 加熱溫度:上下雙加熱控制,Z高溫度350度

     f)高真空泵:DN400油擴散泵或電子泵

     g)低真空泵組:機械泵+羅茨泵機組

     h)冷阱:雙組Polycold

3、光學監(jiān)控系統(tǒng)OMS

     a) 波長精度:0.2nm

     b) 光強波動: 白光< 0.1%,激光< 0.02%

     c) 波長范圍: 400nm-1650nm

 


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