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真空多功能磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備

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更新時(shí)間：2021-04-28 15:16:30瀏覽次數(shù)：438次

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武漢賽斯特精密儀器有限公司

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真空多功能磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備低真空泵組：機(jī)械泵+羅茨泵機(jī)組低真空泵組：武漢賽斯特精密儀器有限公司是武漢市專業(yè)研發(fā)，以力學(xué)試驗(yàn)機(jī)儀器為主

詳細(xì)介紹

真空多功能磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備

是針對(duì)特定市場(chǎng)和客戶群體開發(fā)的新產(chǎn)品，與目前市場(chǎng)上普遍采用的鍍膜設(shè)備相比具備以下突出優(yōu)勢(shì)：?jiǎn)误w同步精密監(jiān)控，實(shí)時(shí)膜厚分布控制。因此適合做各類高難度鍍膜產(chǎn)品。單片薄膜產(chǎn)品的面積越大，優(yōu)勢(shì)越明顯。而電子束鍍膜機(jī)還增加了雙面鍍膜功能，適合半導(dǎo)體激光器的端面鍍膜。

特點(diǎn)：

1、支持向上或向下的鍍膜方式；

2、*的濺射靶材結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)膜厚分部的穩(wěn)定可靠；

3、高速旋轉(zhuǎn)的傘具與實(shí)際鍍膜工件的監(jiān)控位置，實(shí)現(xiàn)了所見(jiàn)即所得；

4、多通道透射式監(jiān)控，配合可調(diào)節(jié)膜厚修正板，實(shí)現(xiàn)了膜厚分布的反饋控制；

5、支持任意膜厚的控制；

6、通用的控制平臺(tái)，友好的人機(jī)界面，使客戶可以自行設(shè)置鍍膜機(jī)的所有控制參數(shù)；

7、開放式接口，方便安裝第三方的光學(xué)膜厚儀；

8、氣流和氣壓同時(shí)實(shí)時(shí)控制，適用出氣量大的低溫鍍膜。

真空多功能磁控濺射系統(tǒng)設(shè)備

工藝參數(shù)：

1、真空系統(tǒng)