當前位置：武漢賽斯特精密儀器有限公司>>半導體測試儀器解決方案>>半導體后道儀器設備>>離子束濺射鍍膜系統

離子束濺射鍍膜系統

返回列表頁

參考價

面議

具體成交價以合同協議為準

產品型號

品牌其他品牌

廠商性質生產商

所在地武漢市

在線詢價收藏產品查看聯系電話

聯系方式：左斌斌查看聯系方式

更新時間：2021-04-25 15:23:12瀏覽次數：644次

聯系我時，請告知來自環保在線

產品分類 品牌分類

  半導體測試儀器解決方案

半導體前道儀器設備

半導體后道儀器設備

半導體檢測儀器設備

全部產品列表

  其他品牌

武漢賽斯特精密儀器有限公司

經營模式：生產廠家

商鋪產品：1668條

所在地區：湖北武漢市

聯系人：左斌斌（銷售經理）

詢價 給他留言

產品簡介

加工定制	是

離子束濺射鍍膜系統晶體結構和相組織的觀察與分析，及各種材料微區化學成分的定性和定量檢測。

詳細介紹

離子束濺射鍍膜系統

聚焦離子束系統（FIB）：材料微納結構的樣品制備，包括：SEM在線觀察下制備TEM樣品、材料微觀截面截取與觀察、樣品微觀刻蝕與沉積等。

聚焦離子束場發射掃描雙束電鏡（FIB）是上納米結構分析和材料微納結構制備的*設備。它配有電子束和Ga離子束，可以實現電子束與離子束的同時在線觀測，具有束流穩定、分辨率高、納米操控確的特點，可以在納米尺度的分辨率下對材料進行三維、高質量、高穩定性的顯微形貌、晶體結構和相組織的觀察與分析，及各種材料微區化學成分的定性和定量檢測。

離子束濺射鍍膜系統

主要技術指標The main technical indicators：

SEM   分辨率Resolution： 1.0nm @ 15kV   1.9nm @ 1kV

放大倍數Mag.：12 ~ 1000,000x

加速電壓EHT：0.1 ~ 30kV

FIB 分辨率Resolution：2.5nm @ 30kV

放大倍數Mag.：300×～ 500,000×

加速電壓EHT：1.0 ~ 30Kv

配置Configuration

探測器Detector：Inlens二次電子探測器

E-T 二次電子探測器

ESB背散射電子探測器

X射線能譜儀 X-ray spectrometer

分辨率Resolution：127 eV @ MnKα

探測元素范圍Detection range of elements： Be(4) ~ Fm(100)

EBSD探測器 EBSD Detector

空間分辨率Spatial resolution：50nm

主要功能：

1.        場發射掃描電鏡（SEM）：各種材料形貌觀察和分析，如金屬、半導體、陶瓷、高分子材料、有機聚合物等

2.        X射線能譜分析儀（EDS）：材料微區成分分析；MnKa峰的半高寬優于127eV；CKa峰的版高寬優于56Ev;FKa峰的半高寬優于64eV；元素Be4-U92;

3.        3D背散射電子取向成像系統（EBSD）：多晶材料的晶體取向和織構分析和3D重構；空間分辨率：優于50nm；探測器靈敏度：加速電壓在3KV時，束流小于50pA能采集到花樣；解析速度大可達600點/s；測試能譜和EBSD 同步采集和一體化功能，選取實際樣品進行三維EDS & EBSD測試；

4.        聚焦離子束系統（FIB）：材料微納結構的樣品制備，包括：SEM在線觀察下制備TEM樣品、材料微觀截面截取與觀察、樣品微觀刻蝕與沉積等。