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武漢賽斯特精密儀器有限公司


全自動曝光機

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具體成交價以合同協議為準

產品型號

品       牌其他品牌

廠商性質生產商

所  在  地武漢市

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更新時間:2021-03-22 15:33:07瀏覽次數:1117次

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產品簡介
加工定制    

全自動曝光機 OAI在半導體行業中擁有超過40年的制造經驗,通過新的精英級光刻設備滿足了日益增長的動態市場挑戰。

詳細介紹

全自動曝光機

適用于: 半導體, MEMS, 傳感器, 微流體, IOT, 封裝

OAI在半導體行業中擁有超過40年的制造經驗,通過新的精英級光刻設備滿足了日益增長的動態市場挑戰。

基于悠久的OAI模塊化平臺,6000系列具有前端或后端對齊,全自動化,亞微米分辨率,可提供與比的性價比。

OAI Aligners擁有*光束光學元件,其均勻性優于±3%,在一次掩模模式下每小時可產生180片晶圓,從而提高產量。 6000系列可以處理超厚和鍵合襯底(高達7000微米),翹曲晶圓(高達7 mm-10mm),薄襯底(低至100微米厚)和厚光刻膠等各種晶圓。

憑借越的工藝可重復性,6000系列是所有生產環境的完美解決方案。選擇使用OAI基于Cognex的定制模式識別軟件的正面或可選背面對齊。對于整個光刻過程,Seriesl 6000可以與集群工具無縫集成。 

優勢:

· 全自動

· 上側對準

選配:

· 底側對準

· DUV 至 NUV

· 集群工具集成

· 客戶定制化軟件

全自動曝光機

規格:OAI系列 6000 掩膜對準系統

曝光系統

曝光模式

真空接觸

硬接觸

軟接觸

近接觸(20μ gap)

分辨率

0.5-0.8μ 

0.8-1.0μ 

1.0-3.0μ 

3.0μ 

*的光學系統

均勻光束尺寸:

 

2”   -200mm 正方形/圓形

200mm-300mm   正方形/圓形

均勻性

優于±3%

攝像頭

帶CCTV擴展景深的雙攝像頭

對準系統

圖案識別

帶OAI客戶定制軟件的Cognex VisionProTM

對準準度

上側0.5μm

從上到下可選背面對齊的1.0μm

預對準確度

優于±5μm

自動對準

從上到下

上側

晶圓處理

基版尺寸

2”   -200mm 圓形或正方形或 200mm-300mm 圓形或正方形

薄晶圓

薄至100μm

翹曲的晶圓

翹至 7mm-10mm

厚和粘合襯底

厚至7000μm

關鍵詞:傳感器

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