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北京同林科技有限公司
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半導體用進口高濃度臭氧水生成裝置（MTK） MTK-HT 型號：MTK-HT 品牌：MTK 臭氧濃度：臭氧水濃度高 30ppm 臭氧產量：氧氣消耗量～16L/min. ......
進口高濃度臭氧水生成裝置（MTK）參數臭氧生成方式：無聲放電法將臭氧氣體溶解于純凈水的方法：噴射方式臭氧水中臭氧的濃度監測：紫外吸收法臭氧水濃度：為30ppm臭氧水流量：50L /min設備尺寸：寬度400mm 深度550mm 高度850毫米（標準型）重量：20 ～ 100Kg消耗功率：～３KW氧氣壓力：為0.1MPa（供給為0.3MPa）氧氣純度：99.5％（）氧氣消耗量：～16L/min.供應純凈水的壓力：0.20Mpa以上（理想值0.25MPa）供應純凈水的溫度：低于25℃臭氧氣體生成部的冷卻水溫度：理想值為20℃以下。如無法實現，需根據情況增加冷卻器（可選）。CO2氣體消耗量（臭氧濃度過高時需通過純凈水注入）：大約100cc/min特點臭氧水濃度高（30ppm）■臭氧水中無金屬雜質半導體，液晶，太陽能電池等潔凈規格（臭氧水生成部由氟素樹脂材料組成）■臭氧濃度上升快達到臭氧濃度僅需大約1分鐘■生成器體積小長400mm。寬550mm。高820mm（標準規格）用途?半導體（清洗）?FPD，液晶（清洗）?MEMS，傳感器（清潔）?硬盤（清洗）?太陽能電池（清潔）?醫療（洗手，純凈水管道清洗）?食品（洗手，消毒，除臭）
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